[发明专利]溅射靶、溅射靶-背衬板组装体以及成膜装置有效
| 申请号： | 201110162696.4 | 申请日： | 2005-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN102230158A | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 宫下博仁 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 金龙河;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 背衬板 组装 以及 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅射靶-背衬板组装体，是形成有腐蚀部以及非腐蚀部的板状靶和背衬板的组装体，其特征在于，在靶表面区域具有1个或多个凹部，靶的表面积超过当假定靶为平面时的表面积的100％，并且低于125％，并且与靶表面的凹部相应位置的背衬板的板厚，除去超过靶的外形的背衬板的周边部的板厚以外，具有比所述凹部对应位置的内侧的背衬板板厚厚的板厚。
2.如权利要求1所述的溅射靶-背衬板组装体，其特征在于，在靶表面区域形成的凹部为1个或多个环状的凹部。
3.如权利要求1或2所述的溅射靶-背衬板组装体，其特征在于，凹部的形状为具有V字形、圆弧形、方形剖面的沟。
4.一种成膜装置，使用如权利要求1～3中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体。
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