[发明专利]液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置

权利要求书

1.一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置包括一对相对的基板、设置在该基板间的液晶层、和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜，并且在像素内具有取向方位不同的两个以上的区域，该制造方法的特征在于：

该制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域，通过设置有透光部和遮光部的光掩模在每个曝光区域中进行取向膜的曝光的曝光工序，

该曝光工序在对光源和光掩模的组合、以及基板中的至少任一个进行扫描的同时进行扫描曝光，并且以相邻的曝光区域的一部分重复的方式进行重复曝光，

该光掩模具有半色调部，该半色调部配置有透光部，该透光部的开口率小于在其它部分设置的透光部的开口率，

该半色调部与重复曝光的区域对应设置，

所述重复曝光的区域的曝光量的合计，相对于不重复曝光的区域的曝光量为70～150％。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在所述曝光工序中对取向膜照射紫外线，

所述紫外线的照射方向在俯视基板时在像素内为反平行方向。

3.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述液晶层包含液晶分子，

所述液晶分子的预倾角方向在俯视基板时在像素内为反平行方向。

4.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述取向膜产生选自交联反应、异构化反应和光致再取向中的至少一个反应或取向。

5.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述取向膜包括具有选自4-查耳酮基、4’-查耳酮基、香豆素基和肉桂酰基中的至少一个感光性基的材料。

6.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述光掩模的透光部和遮光部配置成条纹状。

7.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述曝光工序中从相对于基板面的法线倾斜的方向入射紫外线。

8.如权利要求7所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述紫外线是偏振紫外线。

9.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述重复曝光的区域的宽度为10～80mm。

10.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部中，随着朝向光掩模的端部而透光部的开口率减少。

11.如权利要求10所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部的开口率的变化以线性函数或三角函数表示。

12.如权利要求10所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部中，随着朝向光掩模的端部而透光部的长度变短。

13.如权利要求10所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部中，随着朝向光掩模的端部而透光部的宽度变窄。

14.如权利要求13所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述光掩模的透光部的中心位置的间隔相同。

15.如权利要求13所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部的透光部从透光部配置区域的中心向两侧分割配置。

16.如权利要求10所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部设置有具有相对将透光部配置区域的宽度2等分的中心线呈线对称的形状的透光部。

17.如权利要求10所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

所述半色调部设置有具有台阶形状的透光部。

18.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

以对在一个基板上设置的取向膜的扫描曝光的扫描方向，与对在另一个基板上设置的取向膜的扫描曝光的扫描方向大致正交的方式，进行所述一对相对的基板的贴合。