[发明专利]一种介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜有效
申请号: | 201110163935.8 | 申请日: | 2011-06-17 |
公开(公告)号: | CN102831962A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 康振华 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G02F1/153;B60R1/08 |
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地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 介质 导电 制备 方法 变色 后视镜 | ||
技术领域
本发明属于防眩后视镜领域,尤其涉及一种防眩后视镜用的介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜。
背景技术
目前应用最为有效的电致变色防眩后视镜,是在后视镜中装设一种电致变色组件,通过通电使电致变色溶液变色,导致后视镜的反射率降低,进而达到防眩光的目的。现有电致变色后视镜的一般结构包括相对配置的第一基片和第二基片,所述第一基片相对于第二基片的表面设有导电反射膜,所述第二基片相对于第一基片的表面设有透明导电膜,所述导电反射膜和透明导电膜的周边缘设有边框胶,所述导电反射膜、透明导电膜和边框胶形成的空腔中容纳有电致变色溶液。其中,所述导电反射膜大多采用铝、银、铬和镍等其它金属膜,但是铬和镍反射膜的反射率比较低,很难达到后视镜反射率的要求;金属铝和银的反射率比较高,但与电致变色溶液接触时会发生腐蚀反应。
发明内容
本发明的目的是提供一种介质导电膜,该介质导电膜对光的吸收较少,能够达到较高的反射率;同时能够防止与电致变色溶液接触时发生腐蚀反应,具有很好的稳定性。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
一种介质导电膜,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6。
本发明还提供一种介质导电膜的制备方法,所述方法包括以下步骤:
S11、提供承载介质导电膜的基板,在所述基板上形成第一介质层;
S12、在第一介质层上形成第二介质层,然后再在第二介质层上形成第一介质层,如此交替往复,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层;
S13、在所述介质膜层上形成透明导电层;
其中,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6。
本发明又提供一种电致变色后视镜,包括相对配置的第一基片和第二基片,所述第一基片相对于第二基片的表面设有介质导电膜,所述第二基片相对于第一基片的表面设有透明导电膜,所述介质导电膜和透明导电膜的周边缘设有边框胶,所述介质导电膜、透明导电膜和边框胶形成的空腔中容纳有电致变色溶液,其中,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6。
本发明提供的介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜中,第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,所述介质膜层即为多层结构组成,对光的吸收较少;所述第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6时,该介质导电膜能形成较高的反射率,当第一介质层和第二介质层的折射率差距越大时,更能够形成较高反射率的膜系结构;同时,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,因而制作成电致变色装置时能够防止与电致变色溶液接触时发生腐蚀反应,具有很好的稳定性。
附图说明
图1是本发明实施例提供的介质导电膜的结构示意图。
图2是本发明实施例提供的一种介质导电膜的制备方法流程示意图。
具体实施方式
为了使本发明所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参考图1所示,一种介质导电膜,所述介质导电膜包括透明导电层3、若干个第一介质层1和若干个第二介质层2,所述第一介质层1和第二介质层2交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6。
其中,所述第一介质层1和第二介质层2交替层叠排列的形式包括:以第一介质层为基底,在所述第一介质层上形成第二介质层,然后在第二介质层上形成第一介质层,如此交替往复,以形成第一介质层和第二介质层交替层叠排列的介质膜层(如图1所示的结构);或者,以第二介质层为基底,在所述第二介质层上形成第一介质层,然后在第一介质层上形成第二介质层,如此交替往复,以形成第一介质层和第二介质层交替层叠排列的介质膜层。
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