[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

加载/卸载单元；

工艺单元，进行基板处理工艺；

样品加载单元，配置在所述加载/卸载单元和所述工艺单元之间；以及

搬运部件，在所述工艺单元和所述样品加载单元之间移送基板；

所述搬运部件设于所述工艺单元和所述样品加载单元内，而且，

依次配置所述加载/卸载单元、所述样品加载单元以及所述工艺单元。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述搬运部件包括：

第一移送单元，分别在所述样品加载单元和所述工艺单元内以相同高度设置；

第二移送单元，分别在所述样品加载单元和所述工艺单元内以相同高度设置，并且位于比所述第一移送单元低的位置。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一移送单元包括：

第一移送模块，设于所述样品加载单元的第一处理空间内；

加载模块，设于所述工艺单元内，以与所述第一移送模块相同的高度设置；

所述第二移送单元包括：

第二移送模块，设于所述样品加载单元的第二处理空间内；

卸载模块，设于所述工艺单元内，以与所述第二移送模块相同的高度设置；

所述第一处理空间和所述第二处理空间在所述样品加载单元内被划分为上下部分。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加载模块包括：

第一移送部件，以与所述第一移送模块相同的高度设置；

第一驱动部件，向所述第一移送部件提供驱动力；

所述卸载模块包括：

第二移送部件，以与所述第二移送模块相同的高度设置；

第二驱动部件，向所述第二移送部件提供驱动力。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一移送部件包括：

驱动轴，贯通所述工艺单元的处理室的一侧壁；

搬运辊，设于所述驱动轴的一端，并支撑加载到所述处理室内部的所述基板的下侧；

从动带轮，设于所述驱动轴的另一端；以及

密封机构，设置成与所述处理室的所述一侧壁的外侧面紧密结合，可使所述驱动轴插入并旋转，或者沿轴向移动；

所述第一驱动部件包括：

动力传递轴；

驱动器，设于所述动力传递轴的一端，提供旋转力；

驱动带轮，设于所述动力传递轴的另一端；

所述从动带轮和所述驱动带轮与所述动力传递部件连接，将由所述第一驱动部件产生的驱动力传递给所述第一移送部件。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第二移送部件包括：

驱动轴，贯通所述工艺单元的处理室的一侧面；

搬运辊，设于所述驱动轴的一端，并支撑向所述处理室外部卸载的所述基板的下侧；以及

从动带轮，设于所述驱动轴的另一端；

所述第二驱动部件包括：

驱动轴；

驱动器，设于所述驱动轴的一端，提供旋转力；以及

驱动带轮，设于所述驱动轴的另一端；

所述从动带轮和所述驱动带轮与动力传递部件连接，将由所述第二驱动部件产生的驱动力传递给所述第二移送部件。

7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述密封机构在其内侧面上设有磁性体，在所述磁性体和所述驱动轴的外侧面之间设有磁性流体，所述磁性流体通过由所述磁性体产生的磁力产生磁感应，从而密封所述磁性体与所述驱动轴之间的空间。

8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一移送部件还包括：

驱动板，配置在所述从动带轮与所述密封机构之间；

轴承部件，设于所述驱动板上，可旋转地支撑所述驱动轴；以及

驱动部，使所述驱动板向水平方向移动。