[发明专利]化学机械抛光系统

权利要求书

1.一种化学机械抛光系统，其特征在于包含有：

一晶圆抛光单元，包含一废液底槽，用来接受一使用过的抛光液，以及一废弃抛光液排放管路，用来排放该使用过的抛光液；以及

一抛光后清洗单元，与该晶圆抛光单元连接，并且将该抛光后清洗单元的一使用过的碱性化学物流入该晶圆抛光单元，使该使用过的碱性化学物能即时的清洗该废弃抛光液排放管路，避免该废弃抛光液排放管路阻塞。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該使用过的碱性化学物包含四甲基氢氧化铵。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該使用过的碱性化学物直接流入该晶圆抛光单元的该废液底槽中。

4.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該使用过的碱性化学物不流入该晶圆抛光单元的该废液底槽中。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該使用过的碱性化学物通过重力流入该晶圆抛光单元。

6.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該抛光后清洗单元是晶圆刷洗机。

7.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該使用过的抛光液排入一废液桶。

8.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于每次该抛光后清洗单元操作时，该使用过的碱性化学物就能即时的清洗该废弃抛光液排放管路。

9.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于該晶圆抛光单元包含一抛光平台、一抛光垫，设于该抛光平台上、一抛光头，用来固定并旋转晶圆，以及一抛光液供应装置。

10.如权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于该抛光后清洗单元包含多个滚轴，用来支撑并转动晶圆、一清洗刷，用来刷洗晶圆、以及一清洗剂喷洒棒，配置于该清洗刷附近。