[发明专利]黄瓜歇秧防御技术无效

专利信息
申请号: 201110175646.X 申请日: 2011-06-27
公开(公告)号: CN102308718A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 苏芹 申请(专利权)人: 苏芹
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 233700 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 黄瓜 防御 技术
【说明书】:

技术领域

发明涉及农作物栽培技术,具体涉及一种黄瓜歇秧防御技术。

背景技术

黄瓜“歇秧”的发生原因多是由于春节期间,黄瓜价格较高,为了提高产量,菜农往往采取不到措施:(1)留瓜多,凡是能坐住的瓜都留下,多余的雌花也不摘除。(2)采收不及时,由于瓜价不稳,有时为了等待高价,把本已长成的瓜留在瓜秧上,造成“坠秧”,这样做的结果是打破了植株营养生长和生殖生长的平衡,使植株体内有机营养消耗过多。(3)施肥不当,生产中,菜农施肥存在“多、乱、杂”现象,尤其是过量使用复混肥,使得土壤溶液浓度过高,造成根部受害,根尖变铁锈色或局部坏死,使根部的吸收能力减弱,影响了植株正常生长。(4)农药过量,日光温室黄瓜越冬期间,如果温室内环境调控不好,极易发生病害,绝大多数菜农只注重化学防治,而忽视农业措施,使药间隔时间短、浓度严重超标,造成杀菌剂使用过量,形成药害,植株叶片变的不平,光合机能下降,加上乱施激素累农药,造成黄瓜植株生理失调,使黄瓜生长点不能正常生长。(5)浇水不当,菜农浇水不注意天气状况,也不按植株生长规律分析其浇水的利弊关系,如果浇水后遇上连阴天、低温和强寒流等不利天气的影响,使地温低于12℃,而土壤相对湿度高于85%,造成黄瓜沤根,从而使根系生长受到抑制,对上部的生长影响较大。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种可以预防和防治黄瓜歇秧的防御技术。

本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现,

黄瓜歇秧防御技术,其特征在于:包括以下防御措施,

a、加强植株调整:在黄瓜落蔓时不能一次落蔓太低,太低不利于黄瓜的正常生长,落蔓后,黄瓜植株维持在1.5米左右,保证植株有15片以上的功能叶,保证正常的光合作用,维持正常生长,对于坐瓜较多的植株,要适当疏瓜,不可见瓜就留,否则容易造成中后期歇秧,底部发黄的叶片要及时去掉,减少消耗;

b、连阴天加强光照管理:春节前后阴雪天气较多,在阴天时临近中午时要拉开草苫,适当放风2小时,可增加棚内温度,连阴天骤转晴后不能猛然全部揭开草苫,应“揭花苫”,避免造成“闪苗”现象;

c、注意肥水管理:深冬期间温度低,光照弱,浇水次数不能太勤,一般在20天左右浇一次水即可,且不能大水漫灌,在浇水后要等棚内温度提高高30℃以上才可放风,风口应由小到大,可不一次性放风过大,肥料应随水冲施,要施容易被黄瓜吸收的含有腐殖酸或氨基酸的肥料;

d、加强病虫害防治:深冬期间黄瓜极易发生霜霉病、褐斑病、灰霉病、细菌性角斑病等,对于这些常见病害,要树立“以防为主、综合治理”的思想,确保棚内没有感病植株,在用药时要控制用药浓度,不可多种农药混配,在喷洒农药后及时放风。

本发明的有益效果是:本发明可有效预防及防治黄瓜歇秧的发生,提高黄瓜产量及质量,增加菜农种瓜收入。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。

黄瓜歇秧防御技术,包括以下防御措施,

a、加强植株调整:在黄瓜落蔓时不能一次落蔓太低,太低不利于黄瓜的正常生长,落蔓后,黄瓜植株维持在1.5米左右,保证植株有15片以上的功能叶,保证正常的光合作用,维持正常生长,对于坐瓜较多的植株,要适当疏瓜,不可见瓜就留,否则容易造成中后期歇秧,底部发黄的叶片要及时去掉,减少消耗;

b、连阴天加强光照管理:春节前后阴雪天气较多,在阴天时临近中午时要拉开草苫,适当放风2小时,可增加棚内温度,连阴天骤转晴后不能猛然全部揭开草苫,应“揭花苫”,避免造成“闪苗”现象;

c、注意肥水管理:深冬期间温度低,光照弱,浇水次数不能太勤,一般在20天左右浇一次水即可,且不能大水漫灌,在浇水后要等棚内温度提高高30℃以上才可放风,风口应由小到大,可不一次性放风过大,肥料应随水冲施,要施容易被黄瓜吸收的含有腐殖酸或氨基酸的肥料;

d、加强病虫害防治:深冬期间黄瓜极易发生霜霉病、褐斑病、灰霉病、细菌性角斑病等,对于这些常见病害,要树立“以防为主、综合治理”的思想,确保棚内没有感病植株,在用药时要控制用药浓度,不可多种农药混配,在喷洒农药后及时放风。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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