[发明专利]组合式柴窑结构无效
申请号: | 201110175805.6 | 申请日: | 2011-06-28 |
公开(公告)号: | CN102853665A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 钱云春 | 申请(专利权)人: | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 |
主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200 江苏省吴江市松陵开发*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 组合式 结构 | ||
技术领域
本发明涉及一种柴窑结构,尤其是一种组合式柴窑结构。
背景技术
本发明提供一种组合式柴窑结构,主要包括可组合拆卸分离的一燃烧室、一窑室及一烟囱所组成,该组合式柴窑结构之燃烧室、窑室及烟囱的容积比概约为3∶2∶1,其中,该燃烧室为一横置的状态,且于燃烧室内具有一燃烧空间,燃烧室两端各设有一第一开口,而于燃烧室顶端中央位置设有与燃烧空间相通的一第二开口;于窑室内具有一容置室,窑室的纵向两端分别设有一第三开口及一第四开口,于窑室下端与燃烧室顶端中央位置连接,且该窑室的第三开口与燃烧室的第二开口相通;该烟囱内具有一纵向贯穿孔,且该烟囱的贯穿孔一端对应该窑室的第四开口,而置于窑室顶端位置,贯穿孔则与容置室相通,此种构造的柴窑结构,可方便于拆卸分离移动后再组合,且其燃烧室及窑室易使窑内达到及保持1200~1300℃的工作温度。
一种组合式柴窑结构,其主要包括有可组合拆卸分离的一燃烧室、一窑室及一烟囱;其中,该燃烧室为一横置的状态,且该燃烧室内具有一燃烧空间,于燃烧室横向两端分别设有一第一开口,而该燃烧室顶端中央位置设有与燃烧空间相通的一第二开口,该燃烧室由断热材料所构成;该窑室内具有一容置室,该窑室的纵向两端分别设有一第三开口及一第四开口,该窑室下端与燃烧室顶端中央位置连接,且该窑室的第三开口与燃烧室的第二开口相通,该窑室由断热材料所构成;该烟囱内具有一纵向贯穿孔,且该烟囱的贯穿孔一端对应该窑室的第四开口,而置于窑室顶端中央位置,贯穿孔则与容置室相通,该烟囱由断热材料所构成;该组合式柴窑结构的燃烧室、窑室及烟囱的容积比概约为3∶2∶1。
其中:该燃烧室的燃烧空间两侧中央设有一横跨的隔板床,且该隔板床具有复数纵向穿孔。
其中:该燃烧室第二开口设有一可盖合之隔板,且该隔板具有复数纵向穿孔。
其中:该燃烧室两端各设有可选择性封闭该燃烧室第一开口的门板。
其中:该燃烧室可分离为一前段燃烧室、一中段燃烧室及一后段燃烧室,该中段燃烧室顶端中央位置设有一第二开口。
发明内容
针对上述问题,本发明提供一种组合式柴窑结构。
本发明提供一种组合式柴窑结构,主要包括可组合拆卸分离的一燃烧室、一窑室及一烟囱所组成,该组合式柴窑结构之燃烧室、窑室及烟囱的容积比概约为3∶2∶1,其中,该燃烧室为一横置的状态,且于燃烧室内具有一燃烧空间,燃烧室两端各设有一第一开口,而于燃烧室顶端中央位置设有与燃烧空间相通的一第二开口;于窑室内具有一容置室,窑室的纵向两端分别设有一第三开口及一第四开口,于窑室下端与燃烧室顶端中央位置连接,且该窑室的第三开口与燃烧室的第二开口相通;该烟囱内具有一纵向贯穿孔,且该烟囱的贯穿孔一端对应该窑室的第四开口,而置于窑室顶端位置,贯穿孔则与容置室相通,此种构造的柴窑结构,可方便于拆卸分离移动后再组合,且其燃烧室及窑室易使窑内达到及保持1200~1300℃的工作温度。
一种组合式柴窑结构,其主要包括有可组合拆卸分离的一燃烧室、一窑室及一烟囱;其中,该燃烧室为一横置的状态,且该燃烧室内具有一燃烧空间,于燃烧室横向两端分别设有一第一开口,而该燃烧室顶端中央位置设有与燃烧空间相通的一第二开口,该燃烧室由断热材料所构成;该窑室内具有一容置室,该窑室的纵向两端分别设有一第三开口及一第四开口,该窑室下端与燃烧室顶端中央位置连接,且该窑室的第三开口与燃烧室的第二开口相通,该窑室由断热材料所构成;该烟囱内具有一纵向贯穿孔,且该烟囱的贯穿孔一端对应该窑室的第四开口,而置于窑室顶端中央位置,贯穿孔则与容置室相通,该烟囱由断热材料所构成;该组合式柴窑结构的燃烧室、窑室及烟囱的容积比概约为3∶2∶1。
其中:该燃烧室的燃烧空间两侧中央设有一横跨的隔板床,且该隔板床具有复数纵向穿孔。
其中:该燃烧室第二开口设有一可盖合之隔板,且该隔板具有复数纵向穿孔。
其中:该燃烧室两端各设有可选择性封闭该燃烧室第一开口的门板。
其中:该燃烧室可分离为一前段燃烧室、一中段燃烧室及一后段燃烧室,该中段燃烧室顶端中央位置设有一第二开口。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市万泰真空炉研究所有限公司,未经苏州市万泰真空炉研究所有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110175805.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种实验用真空炉
- 下一篇:一种三嗪基衍生物化合物及其在OLED上的应用