[发明专利]激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用凸版印刷版原版、凸版印刷版的制版方法及凸版印刷版无效

专利信息
申请号: 201110176888.0 申请日: 2011-06-28
公开(公告)号: CN102314080A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 吉田健太 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/075;B41C1/05;B41N1/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 激光雕刻 树脂 组合 凸版印刷 原版 制版 方法
【权利要求书】:

1.一种激光雕刻用树脂组合物,其特征在于含有:成分A即具有至少2个巯基的化合物;成分B即具有至少2个烯键式不饱和基团的化合物;成分C即粘合剂聚合物;以及成分D即具有水解性甲硅烷基及/或硅烷醇基的化合物。

2.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分A为由式(a)表示的化合物,

[化学式1]

式中,R1及R2分别独立地表示氢原子或碳数1~10的烷基,m为0~2的整数,n为0或1,y表示2以上的整数,X1为y价的有机残基。

3.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分C为选自丙烯酸树脂及聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分C为聚乙烯醇缩丁醛。

5.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分D为具有2个以上水解性甲硅烷基的化合物。

6.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分D为具有水解性甲硅烷基的化合物,所述水解性甲硅烷基为Si原子上直接键合有至少1个烷氧基或卤原子的基团。

7.根据权利要求6所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述水解性甲硅烷基为Si原子上直接键合有至少1个烷氧基的基团。

8.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其还含有:成分E,交联促进剂。

9.根据权利要求8所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分E为选自由自由基产生剂、酸及碱构成的一组中的一种以上。

10.根据权利要求9所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,所述成分E为自由基产生剂。

11.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其还含有:成分F即可吸收700~1300nm波长的光的光热转换剂。

12.一种激光雕刻用凸版印刷版原版,其中支撑体上备有由权利要求1~11中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物形成的浮雕形成层。

13.根据权利要求12所述的激光雕刻用凸版印刷版原版,其中,所述浮雕形成层是利用光及/或热而交联的交联浮雕形成层。

14.根据权利要求13所述的激光雕刻用凸版印刷版原版,其中,所述交联浮雕形成层是利用热交联的。

15.一种凸版印刷版的制版方法,其特征在于,其包含对权利要求13或14所述的凸版印刷版原版中的交联浮雕形成层进行激光雕刻而形成浮雕层的工序。

16.一种凸版印刷版,其是利用权利要求15所述的制版方法制造而成且具有浮雕层。

17.根据权利要求16所述的凸版印刷版,其中,所述浮雕层的厚度为0.05mm以上10mm以下。

18.根据权利要求16或17所述的凸版印刷版,其中,所述浮雕层的肖氏A硬度为50°以上90°以下。

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