[发明专利]调光装置及投影仪

说明书

技术区域

本发明涉及调光装置及投影仪。

背景技术

公知有下述投影仪，该投影仪具备：光源装置；光调制装置，该光调制装置对从光源装置射出的光束进行调制；调光装置，该调光装置对入射到光调制装置的光束的光量进行调整；以及投影光学装置，该投影光学装置对由光调制装置调制后的光束进行放大投影。投影仪多被搬运到各种各样的场所使用，追求其便携性，因此提出有以实现投影仪的小型化为目的的调光装置(例如，参照专利文献1)。

专利文献1所记载的调光装置配置于一对透镜阵列即光路上游侧的第一透镜阵列与光路下游侧的第二透镜阵列之间，该一对透镜阵列用于利用光束对光调制装置的图像形成区域均匀地进行照明。进而，一对遮光部件以与一对齿轮(转动部件)的转动轴不重叠的方式配置，各转动轴以与第二透镜阵列重叠的方式配置。根据该结构，同遮光部件与转动轴重叠的情况或转动轴配置于第二透镜阵列的宽度方向的外侧的情况相比，会缩短第一透镜阵列与遮光板之间的距离从而实现小型化。

[专利文献1]日本特开2009-216906号公报

然而，在专利文献1所记载的调光装置中，通过使齿轮相对于第一透镜阵列朝光路下游侧远离来缩短第一透镜阵列与遮光板之间的距离，但是齿轮的半径不一定小。因此，即使能缩短一对透镜阵列之间的距离，也存在不能减小与光束的光轴正交的方向的调光装置的宽度的可能性，存在使投影仪小型化的效果不充分的课题。并且，在最大遮光状态(参照专利文献1的图9)下，一对遮光部件的前端相互之间隔开一定程度的距离而配置，从而存在不能充分减少最大遮光状态下的通过光量的可能性；或者难以进行从最小遮光状态到最大遮光状态的顺畅的调光的可能性。

发明内容

本发明是为了解决上述课题的至少一部分而完成的，能够作为以下的实施方式或应用例实现。

[应用例1]本应用例所涉及的调光装置为对入射的光束的一部分进行遮光从而对通过光量进行调整的调光装置，上述调光装置具备：一对转动部件，该一对转动部件具有沿着与上述光束的中心轴大致正交的方向的转动轴；以及一对遮光部件，该一对遮光部件由上述一对转动部件保持，伴随着上述一对转动部件的转动使对上述光束进行遮光的遮光区域的大小发生变化，上述转动轴配置于与上述光束所通过的区域重叠的位置，上述一对遮光部件配置于与上述转动轴不重叠的位置。

根据该结构，由于一对转动部件的转动轴配置于与光束通过的区域重叠的位置，因此与转动轴配置于光束通过的区域以外的情况相比，转动轴之间的距离减小。因此，因为能够减小转动部件的转动半径，所以能够使转动部件小型化。在此，由于一对遮光部件配置于与转动轴不重叠的位置，因此即便使转动部件小型化，也易于将遮光部件配置于在最大遮光状态下能够减少通过光量的位置。由此，由于能够对通过光量良好地进行调整并且能够使转动部件小型化，因此能够实现调光装置的小型化。

并且，由于转动部件的转动半径减小，因此与转动轴配置于光束通过的区域以外的情况相比，能够使转动部件转动的角度范围更大。由此，由于能够使伴随着转动部件的转动的遮光区域的大小的变化更平缓，因此能够进行更顺畅的调光。

[应用例2]根据上述应用例所涉及的调光装置，优选形成为，上述一对遮光部件在上述遮光区域最大的状态下配置在比上述转动轴靠上述光束的光路上游侧的位置，且随着上述遮光区域变小而朝上述光束所通过的区域的外侧移动。

根据该结构，在最大遮光状态下，遮光部件配置在比转动轴靠光束的光路上游侧的位置。由于光束朝向光路下游侧而朝外侧扩展，因此通过将遮光部件配置于光路上游侧，能够将最大遮光状态下的通过光量抑制得较少。并且，在最小遮光状态下，遮光部件配置在比转动轴靠光束所通过的区域的外侧的位置，因此能够增多通过光量。

[应用例3]根据上述应用例所涉及的调光装置，优选形成为，上述一对遮光部件具有：板状的第一部分，该板状的第一部分沿着上述转动轴的方向延伸；以及第二部分，该第二部分在与上述第一部分的延伸方向交叉的方向伸出，上述第二部分配置成，在上述遮光区域最大的状态下，从上述第一部分的位于上述光束的中心轴侧的端部向上述光束的光路下游侧弯折，并且，上述第二部分在位于上述光束的光路下游侧的端部具有缺口。

根据该结构，在最大遮光状态下，第二部分配置在比第一部分的光束中心轴侧的端部靠光路下游侧的位置，并且在第二部分的光路下游侧的端部设置有缺口。因此，从光路下游侧沿光束的中心轴方向观察到的第二部分的端部的轮廓伴随着转动部件的转动而变化。由此，能够伴随着转动部件的转动使遮光区域的大小更平缓地变化。