[发明专利]Al基合金溅射靶

说明书

技术领域

本发明涉及在液晶面板、触摸面板的布线形成中可以优选使用的Al基合金溅射靶。

背景技术

随着显示设备的结构和制造工艺的多样化，对于显示设备中使用的布线材料除了要求布线电阻低的性质，还要求具有对碱溶液或水分等的优异耐腐蚀性。例如专利文献1中，作为在耐腐蚀性优良的显示设备用布线材料的形成中使用的溅射靶，公开了以Mo为主体，还含有Ti等的元素的Mo合金溅射靶，但是通过上述溅射靶得到的Mo合金膜的电阻率会高达10μΩcm以上。为了降低布线材料的电阻率，非专利文献1中公开了一种在布线电阻低的纯Al的上下层叠了上述Mo合金膜的布线结构，但是由于纯Al的耐热性差，存在产生小丘(hillock)的问题。因此，优选代替纯Al而使用含有Nd、La的Al-Nd/La合金。由于Al-Nd/La合金的耐热性优异，因此除了液晶显示器等的晶体管用布线材料(含有电极材料)之外，还在触摸面板用布线材料、反射电极用材料等用途中广泛使用。

近年来，耐腐蚀性的要求日益增大，特别是要求暴露于在显示设备的制造工序中使用的氢氧化钾、氢氧化钠、TMAH(四甲基氢氧化铵)等碱性药品也不被腐蚀的优异耐碱腐蚀性(耐碱性)。例如为上述Al材料和Mo合金膜的布线结构(Mo-Al-Mo的层叠结构)的情况下，由于图案加工，层叠断面会露出，通常Al材料的耐碱性比Mo差，会产生蚀刻速度的差，因此在后工序中暴露于TMAH等碱性药品时，如图1所示，布线端部的Al会变得被过度蚀刻。Al在布线端部被过度蚀刻时，由于会在碱性药液侵入Al的空洞部分的状态下暴露于后工序(热处理)，因此会导致碱腐蚀的扩大。进而，根据情况，会产生从下层的Mo直至上层的Mo的连续的布线缺陷，形成后工序中的药液侵入经路，而且还会造成外气的侵入经路，因此腐蚀会越来越深刻化。

【以往技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2005-290409号公报

【非专利文献】

【非专利文献1】Thin Solid Films 340卷(1999)，第306～316页

发明内容

【发明要解决的课题】

本发明是鉴于上述情况而研发的，其目的在于，提供一种Al基合金溅射靶，其能够提高作为电阻率低且耐热性优良的布线材料被广泛使用的Al-Nd/La合金的耐碱腐蚀性。

【解决课题的方法】

可解决上述课题的本发明的溅射靶具有以下特征，由含有0.1～3原子％Nd和/或La的Al基合金构成，且Al基合金中所含的Fe量为Nd和/或La的合计量的1/76以下。

另外，在优选实施方式中，上述溅射靶利用二次离子质谱法分析时的⁵⁶Fe⁺离子相对于¹⁴³Nd⁺离子的离子强度比为0.021以下。

在本发明的优选实施方式中，上述Al基合金溅射靶用于液晶面板或触摸面板的布线形成。

【发明的效果】

若使用本发明的溅射靶，可以提供耐碱腐蚀性优异且适用于作为液晶面板、触摸面板等的布线材料的Al-Nd/La合金膜。

附图说明

图1是表示在Al材料和Mo膜的层叠结构(Mo-Al-Mo的三层结构)中，由于碱腐蚀而端部的Al被过度蚀刻的状态的照片。

具体实施方式

本发明人等，为了在不使作为高耐热性且低电阻的布线材料而广泛使用的Al-Nd/La合金的优良的特性(高耐热性和低电阻)受损失的前提下提高碱性药液耐性，进行了深入研究。结果发现，在用于形成Al-Nd/La合金膜的溅射靶的制造过程中，不可避免地混入的杂质铁(Fe)会对耐碱性的下降造成显著影响。根据该认知，对耐碱性与Al合金膜中的Fe量和Nd/La的量之间的关系继续进行深入研究，结果发现，若将Al-Nd/La合金溅射靶中的Fe量控制在Nd和/或La的合计量(单独含这些元素时的单独的含量)的1/76以下时，如后记的实施例所示，可以实现远远高于使用了表1的No.1的高纯度Al溅射靶时的耐碱性，从而完成了本发明。