[发明专利]显示装置、抗反射基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201110178886.5 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102855817A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 陈冠志;谷祖贤 | 申请（专利权）人： | 群康科技(深圳)有限公司;奇美电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示装置 反射 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示装置，其特征在于，所述的显示装置包括：
一显示面板；以及
一抗反射基板，设置于所述显示面板上，所述抗反射基板包括：
一基底，具有多个凹槽；及
多个蛾眼结构，设置于所述凹槽内，所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述凹槽为矩形结构或平行四边形结构。
3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，相邻的所述凹槽的间距为10～30微米。
4.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，各所述凹槽的深度为1～5微米。
5.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，各所述凹槽的长度为各所述凹槽的宽度的1～3倍。
6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，各所述凹槽的宽度为20～100微米。
7.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述凹槽为三角形结构。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，各所述凹槽的边长为20～190微米。
9.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述抗反射基板为一抗反射透明基板。
10.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述凹槽为圆形结构。
11.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，各所述凹槽的直径为20～200微米。
12.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板包括多个像素，各所述凹槽的边缘对应于各所述像素的边缘。
13.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，相邻两列的所述凹槽相对平移一预定距离，以使所述凹槽的所述侧壁形成折弯状态。
14.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，入射所述蛾眼结构的一光线的总折射率将呈现一梯度式变化。
15.如权利要求14所述的显示装置，其特征在于，所述梯度式变化由一低折射率变化至一高折射率。
16.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述蛾眼结构的剖面为锥状或半球体型态。
17.一种抗反射基板，其特征在于，所述抗反射基板包括：
一基底，具有多个凹槽；以及
多个蛾眼结构，设置于所述凹槽内，所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
18.一种抗反射基板的制造方法，其特征在于，所述抗反射基板的制造方法包括：
提供一基底；
形成多个凹槽于所述基底上；以及
形成多个蛾眼结构于所述凹槽内，所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
19.如权利要求18所述的抗反射基板的制造方法，其特征在于，形成所述凹槽的步骤是利用刻蚀、激光雕刻、精密喷砂或超精密机械加工的方式来形成所述凹槽。
20.如权利要求18所述的抗反射基板的制造方法，其特征在于，形成所述蛾眼结构的步骤是利用微影工艺、电子束雕刻或纳米转印的方式来形成所述蛾眼结构。
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