[发明专利]一种TFT基板的清洗装置无效
申请号: | 201110179691.2 | 申请日: | 2011-06-29 |
公开(公告)号: | CN102319699A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 张明 | 申请(专利权)人: | 彩虹(佛山)平板显示有限公司 |
主分类号: | B08B7/04 | 分类号: | B08B7/04;B08B3/02;B08B5/02 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 贾玉健 |
地址: | 528000 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 tft 清洗 装置 | ||
技术领域
本发明属于基板的清洗装置,具体涉及一种TFT基板的清洗装置。
背景技术
一般的针对TFT基板清洗方法是利用一排扇形喷咀的方法,对TFT基板表面进行清洗,这种利用一排一字型排列的扇形喷咀清洗的方法,由于二流体形成的扇形区域压力不同,容易造成清洗TFT基板不匀的产生,同时也造成喷咀的高度必须在30mm以上的复杂结构,总体造成清洗的效果差以及基板良品率低的缺陷。
发明内容
为了克服上述现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种TFT基板的清洗装置,通过两个TFT基板的清洗装置体的喷嘴的线形端部分别与待清洗的基板的运行方向和水平面保持平行,这样就能从喷嘴的线形端部形成同待清洗的基板和水平面之间的夹角一致的水刀来对基板进行压力均匀的清洗,从而提高了基板的良品率。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案是:
一种TFT基板的清洗装置,包括两个两侧分别连接入水管1和进气管2的中空TFT基板的清洗装置体3,每个TFT基板的清洗装置体3的上部为长方体的中空室4而下部为倒三角形柱体的喷嘴5,其中一个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5向下置于待清洗的基板6的上方,且该喷嘴5的线形端部和水平面保持平行;另外一个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5向下置于待清洗的基板6的上方,且该喷嘴5的线形端部待清洗的基板6的运行方向保持平行。
所述的两个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5的线形端部和待清洗的基板6之间的距离范围为4mm-7mm。
通过两个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5的线形端部分别与待清洗的基板6的运行方向和水平面保持平行,这样就能从喷嘴5的线形端部形成同待清洗的基板6和水平面之间的夹角一致的水刀来对基板6进行压力均匀的清洗,从而提高了基板6的良品率。
附图说明
图1为带有本发明的一个TFT基板的清洗装置体的结构图。
图2为本发明的工作原理示意图,其中基板和TFT基板的清洗装置体之间的连线为水刀方向示意。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作更详细的说明。
如图1所示,TFT基板的清洗装置,包括两个两侧分别连接入水管1和进气管2的中空TFT基板的清洗装置体3,每个TFT基板的清洗装置体3的上部为长方体的中空室4而下部为倒三角形柱体的喷嘴5,如图2所示,其中一个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5向下置于待清洗的基板6的上方,且该喷嘴5的线形端部和水平面保持平行;另外一个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5向下置于待清洗的基板6的上方,且该喷嘴5的线形端部待清洗的基板6的运行方向保持平行。所述的两个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5的线形端部和待清洗的基板6之间的距离范围为4mm-7mm。
本发明的工作原理为首先通过每个TFT基板的清洗装置体3的水管1和进气管2分别通入清洗水和高压气体,这样清洗水和高压气体经由长方体的中空室4进入倒三角形柱体的喷嘴5,并从两个喷嘴5的线形端部以水刀的形式喷射而出且水刀之间的夹角同待清洗的基板6和水平面之间的夹角一致。
通过两个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5的线形端部分别与待清洗的基板6的运行方向和水平面保持平行,这样就能从喷嘴5的线形端部形成同待清洗的基板6和水平面之间的夹角一致的水刀来对基板6进行压力均匀的清洗,从而提高了基板6的良品率。所述的两个TFT基板的清洗装置体3的喷嘴5的线形端部和待清洗的基板6之间的距离范围为4mm-7mm,这样的高度更能保证压力均匀的冲洗。
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