[发明专利]钇硅氧氮-氮化硼陶瓷基复合材料的原位制备方法有效
申请号: | 201110180000.0 | 申请日: | 2011-06-29 |
公开(公告)号: | CN102351541A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
发明(设计)人: | 陈继新;陈琳;周延春 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C04B35/597 | 分类号: | C04B35/597;C04B35/622 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钇硅氧氮 氮化 陶瓷 复合材料 原位 制备 方法 | ||
1.一种钇硅氧氮-氮化硼陶瓷基复合材料的原位制备方法,其特征在于:
1)原料粉组成:
以h-BN粉、Y2O3粉、SiO2粉和Si3N4粉为原料,h-BN粉、Y2O3粉、SiO2粉和Si3N4粉的摩尔比为(4.5~28.4)∶4∶1∶1;
2)制备工艺:
原料经过球磨1~24小时,装入石墨模具中,以10~15MPa的压力冷压1~5分钟成饼状,在通有氮气作为保护气氛的热压炉中以5~40℃/min的升温速率升至1500~1700℃保温0.5~1小时,接着以5~40℃/min的升温速率升至1800~2100℃保温1~3小时,热压压力为10~40MPa。
2.按照权利要求1所述的钇硅氧氮-氮化硼陶瓷基复合材料的原位制备方法,其特征在于,Y2O3粉的粒度为100~400目,SiO2粉的粒度为100~400目,Si3N4粉的粒度为100~300目,h-BN粉的粒度为100~300目。
3.按照权利要求1所述的钇硅氧氮-氮化硼陶瓷基复合材料的原位制备方法,其特征在于,氮化硼的体积含量为5~95%,其余为Y4Si2O7N2相。
4.按照权利要求1所述的钇硅氧氮-氮化硼陶瓷基复合材料的原位制备方法,其特征在于,氮化硼的体积含量优选为10~30%,其余为Y4Si2O7N2相。
5.按照权利要求1所述的钇硅氧氮-氮化硼陶瓷基复合材料的原位制备方法,其特征在于,复合材料中h-BN第二相尺寸在5μm以下,以孤岛状均匀弥散地分布在连续的Y4Si2O7N2基体当中。
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