[发明专利]双面受光的全钝化结构晶体硅太阳能电池及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110180062.1 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102364692A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 盛健 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 王凌霄
地址: 213031 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 双面 钝化 结构 晶体 太阳能电池 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种双面受光的全钝化结构晶体硅太阳能电池,其特征是:在太阳能电 池的正面和背面都形成钝化层(1),正面和背面的钝化层(1)表面制备减反射 层(2),在背面减反射层(2)的表面制备可导电的透明导电膜(3),在电池片 的正面和背板的预设区域通过电极(5)出电流。

2.一种双面受光的全钝化结构晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是: 具体制成方法为:

1.硅片绒面制备;

2.硅片掺杂形成P-N结;

3.背结刻蚀;

4.正、背面钝化层制备;

5.正、背面减反射层制备;

6.背面透明导电膜沉积;

7.正、背面电极制备;

8.电池退火。

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