[发明专利]阵列式超材料天线

权利要求书

1.一种阵列式超材料天线，其特征在于，所述天线由多个超材料组成，每一超材料均由至少一个片层组成，每一片层包括片状的基材以及设置在基材上的多个人造孔结构。

2.根据权利要求1所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述多个超材料为汇聚超材料、发散超材料及偏折超材料中的一种或其组合。

3.根据权利要求2所述的阵列式超材料天线，其特征在于，每一超材料均由多个相互平行的片层堆叠形成。

4.根据权利要求3所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述基材分成多个相同的基材单元，每一基材单元与其上的人造孔结构构成一个超材料单元，每一基材单元的长、宽及高的尺寸均不大于入射电磁波波长的五分之一。

5.根据权利要求4所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述每一基材单元为一立方体，所述每一基材单元的边长为入射电磁波波长的十分之一。

6.根据权利要求5所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述汇聚超材料每一片层上的所有超材料单元的折射率以片层的中心为圆心呈圆形分布，处于同一半径上的超材料单元其折射率相同，并且处于任一半径所在的直线方向上的多个超材料单元的折射率均由外侧向片层中心依次增大。

7.根据权利要求6所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述汇聚超材料每一片层的多个人造孔结构形状相同，所述多个人造孔结构中填充有折射率大于基材的介质，处于同一半径上的的人造孔结构其体积相同，并且处于任一半径所在的直线方向上的多个人造孔结构的体积均由外侧向片层中心依次增大。

8.根据权利要求6所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述汇聚超材料每一片层的多个人造孔结构形状相同，所述多个人造孔结构中填充有折射率小于基材的介质，处于同一半径上的的人造孔结构其体积相同，并且处于任一半径所在的直线方向上的多个人造孔结构的体积均由外侧向片层中心依次减小。

9.根据权利要求5所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述发散超材料每一片层上的所有超材料单元的折射率以片层的中心为圆心呈圆形分布，处于同一半径上的超材料单元其折射率相同，并且处于任一半径所在的直线方向上的多个超材料单元的折射率均由外侧向片层中心依次减小。

10.根据权利要求9所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述发散超材料每一片层的多个人造孔结构形状相同，所述多个人造孔结构中填充有折射率大于基材的介质，处于同一半径上的的人造孔结构其体积相同，并且处于任一半径所在的直线方向上的多个人造孔结构的体积均由外侧向片层中心依次减小。

11.根据权利要求9所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述发散超材料每一片层的多个人造孔结构形状相同，所述多个人造孔结构中填充有折射率小于基材的介质，处于同一半径上的的人造孔结构其体积相同，并且处于任一半径所在的直线方向上的多个人造孔结构的体积均由外侧向片层中心依次增大。

12.根据权利要求5所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述偏折超材料每一片层上的所有超材料单元呈矩形阵列分布，同一行或同一列的多个超材料单元其折射率由一端向另一端依次减小。

13.根据权利要求12所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述偏折超材料每一片层的多个人造孔结构形状相同，所述多个人造孔结构中填充有折射率大于基材的介质，处于同一行或同一列的多个人造孔结构的体积由一端向另一端依次增大。

14.根据权利要求12所述的阵列式超材料天线，其特征在于，所述偏折超材料每一片层的多个人造孔结构形状相同，所述多个人造孔结构中填充有折射率小于基材的介质，处于同一行或同一列的多个人造孔结构的体积由一端向另一端依次减小。