[发明专利]一种连续曝光方法和装置

权利要求书

1.一种连续曝光方法，包括：在运动的基材表面涂布材料混合物，其特征在于：

使设定区域的基材处于松弛或较小张力的状态，

使处于松弛或较小张力状态的基材与掩模板贴合，

使基材与掩模板受掩模板传动装置的驱动以相同的速度通过曝光区域，

使通过曝光区域的基材和掩模板分离，

使与基材分离后的掩模板通过传动装置返回至初始位置。

2.根据权利要求1所述的一种连续曝光方法，其特征在于：所述的基材为：聚酯，聚碳酸酯，聚甲基丙烯酸甲酯或其他可卷起的材料；材料混合物包含光引发剂、光聚合材料、添加剂；基材表面材料混合物的涂布方法为狭缝涂布、括涂或淋涂。

3.根据权利要求1所述的一种连续曝光方法，其特征在于：所述的光引发剂为苄基二甲基缩酮，4-甲基二苯甲酮，三甲基二苯甲酮；光聚合材料为丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚氨脂、聚氯乙烯或硅树脂；添加剂为消泡剂、抗静电剂。

4.根据权利要求1所述的一种连续曝光方法，其特征在于：所述的处于松弛或较小张力状态的基材通过基材和涂布于其上的材料混合物自身重力，或辅助以负压，与掩模板贴合。

5.根据权利要求1所述的一种连续曝光方法，其特征在于：所述的基材与掩模板的贴合还包括在基材与掩模板之间附以流体层；所述的流体为水或异丙醇。

6.根据权利要求1所述的一种连续曝光方法，其特征在于：所述的基材和掩模板分离是通过改变基材的运动方向，或辅助以气流的作用，使基材与掩模板分离。

7.一种如权利要求1所述的连续曝光方法所使用的装置，其特征在于：包括：

负压箱，使负压箱前后的基材具有不同的张力；

掩模板，含有透光和阻光部分组成的图案；

曝光光源，通过掩模板透光部分对基材上的材料混合物选择性地曝光；

掩模板传动装置，驱动掩模板和与之贴合的含有涂层的基材通过曝光区域，并将与基材分离后的掩模板传动回初始位置。

8.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的负压箱包括含有开口的腔体和位于腔体外围并围绕腔体运动的多空物体，开口的腔体为空心圆柱体或扁平空心柱状物体。

9.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的掩模板含有玻璃基板和在玻璃基板上由铬层组成的图案。

10.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的掩模板含有聚酯基层和在聚酯基层上由乳剂组成的图案。

11.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的曝光光源为发出紫外光的光源。

12.根据权利要求11所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述紫外光为平行光或近似平行光。

13.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的曝光光源发出的是近似平行光与掩模板平面垂直。

14.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的曝光光源近似平行光与掩模板平面构成一倾斜的角度。

15.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的曝光光源为电子束源。

16.根据权利要求7所述的一种连续曝光的装置，其特征在于：所述的掩模板传动装置包含机械传动系统和电机驱动系统；机械传动系统包含齿形皮带或直线导轨；电机驱动系统包含伺服电机或变频电机。