[发明专利]水溶性树脂组合物及微细图形的形成方法

权利要求书

1.一种用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，在形成有接触孔图形的光致抗蚀剂膜上进行涂敷及热处理，从而减小上述接触孔的尺寸，

其包含由下述化学式1表示的水溶性聚合物和第1水溶性溶剂，

[化学式1]

在上述化学式1中，R₁、R₂、R₃和R₅各是分别独立地包含氢、醚基、酯基、羰基、乙酰基、环氧基、腈基、胺基或醛基的C_1-30的烷基或C_3-30的环烷基，R₄、R₆、R₇和R₈分别独立地是氢或甲基，n是0～5的整数，a是0.05～0.5的实数，b、c和d分别是0～0.7的实数，上述a、b、c和d满足a+b+c+d＝1的条件。

2.如权利要求1所述的用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，其中，上述水溶性溶剂包含100重量份的水和1～20重量份的醇。

3.如权利要求1所述的用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，其中，该水溶性树脂组合物包含100重量份的上述水溶性溶剂和0.01～15重量份的上述水溶性聚合物。

4.如权利要求2所述的用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，其中，上述醇是烷氧基醇。

5.如权利要求1所述的用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，其中，上述水溶性聚合物的基于凝胶渗透色谱法(GPC)的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)是3000至50000。

6.如权利要求5所述的用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，其中，上述水溶性聚合物的分子量分布(重均分子量/数均分子量)为1.0到5.0。

7.一种微细图形的形成方法，其包括：

形成光致抗蚀剂膜的步骤；

通过光刻工艺在上述光致抗蚀剂膜上形成接触孔图形，从而准备光致抗蚀剂图形膜的步骤；

在上述光致抗蚀剂图形膜上涂敷权利要求1所述的水溶性树脂组合物的步骤；

对涂敷有上述水溶性树脂组合物的光致抗蚀剂图形膜进行热处理，形成包含交联部位的涂层膜的步骤；以及

用第2水溶性溶剂溶解上述涂层膜，去除上述交联部位以外的涂层膜的步骤。

8.如权利要求7所述的微细图形的形成方法，其中，上述第2水溶性溶剂是水。

9.如权利要求7所述的微细图形的形成方法，其中，上述热处理在100～200度的温度下进行。

10.如权利要求7所述的微细图形的形成方法，其中，通过调整上述热处理的温度，来调节上述接触孔的尺寸。

11.如权利要求7所述的微细图形的形成方法，其中，上述光致抗蚀剂膜是疏水性膜，其包含降冰片烯衍生物。