[发明专利]具有位置参考讯号磁区的磁带及其加工方法与其所使用的加工冶具有效

专利信息
申请号: 201110182161.3 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102855886A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 杨钱威;王衍翔 申请(专利权)人: 大银微系统股份有限公司
主分类号: G11B5/78 分类号: G11B5/78;G11B5/84
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 胡福恒
地址: 中国台湾台中*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 位置 参考 讯号 磁区 磁带 及其 加工 方法 与其 使用
【说明书】:

技术领域

发明与以磁场变化进行线性位置量测的技术有关,特别涉及一种具有位置参考讯号磁区的磁带及其加工方法与其所使用的加工冶具。

背景技术

利用位置增量与磁场变化感测的技术进行线性位置量测的磁性尺技术被广泛地应用在位置量测器平台上,而用以提供磁场变化的磁带,一般而言,其是在一连续延伸适当长度的长条带体上,依序间设相异的磁极于带体的一侧表面上,据此,当感测元件沿该带体的长轴方向位移动作时,随位置的变化而感测到磁场的变化,但由于其必需提供规律的磁场变化,因此,此磁带上的磁极距为定值,以致使该磁带无法提供适当的感测基准点作为位置的参考讯号,来作为原点位置、极限位置或其他相类似的位置。

为改进上述传统技术的不足,在习用技术中有如图1所示的技术内容被公开,具体而言,其在一连续延伸的带体1上形成规律的光学讯号区,通过光学讯号的读取获得对应的讯号,并将独立的磁铁元件2设置于该带体1的一侧,以形成提供参考位置讯号的磁区;或有如图2所示的技术内容,在具有规律磁场变化的磁带3同侧表面上,形成一连续等距排列的位置讯号区6,以及一非连续等距排列的参考讯号区7,并使各个位置讯号区与参考讯号区具有相同的磁极宽度,达到提供感测元件感测的目的;据此,可通过该参考讯号磁区提供一参考位置的讯号源,以作为如原点位置、极限位置或其他类似位置的定位。

上述习知技术虽然达到了提供参考讯号的校正基准点的作用,但其技术尚不理想,具体而言:

在额外附加磁铁的习知技术中,其必需通过额外安装磁铁元件来提供独立的磁场,使感测元件得以感应,在设置上并非便利,也欠缺可应实际需求作不同变更的灵活功效;

而在通过阻隔片使磁带在感磁程序进行后,得以将具有相同磁极宽度的位置讯号区与参考讯号区分别成形于同侧表面上,从而通过空间位置上的差异,使之提供两种不同的讯号源,但是,由于其需在进行赋予磁带规律磁区的同时,通过阻隔片形成空间位置有别的参考讯号区,因此,其仅能在磁带的制造端中进行,而无法在磁带的使用端由使用者自行因实际需求设定参考位置的基准点,同样地,也欠缺灵活应实际所需的功效。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种具有位置参考讯号磁区的磁带,其可应磁带的使用条件,在磁带上的任意位置形成参考位置讯号的提供磁区。

本发明的另一目的在于提供一种在磁带上形成位置参考讯号磁区的加工方法,其可令使用者自行设定参考基准点,并在磁带上的任意位置形成提供参考讯号的磁区。

本发明的又一目的在于提供一种在磁带上形成位置参考讯号磁区的加工冶具,其可便于使用者自行设置参考讯号的基准点。

为了达到上述目的,本发明采用了以下技术方案:

一种具有位置参考讯号磁区的磁带,其特征在于,它包括:一长形带体;多个主磁区,该多个主磁区以等磁极宽度沿该带体的长轴方向依序设在该带体的一侧带面上;至少一参考讯号磁区,该至少一参考讯号磁区设于该带体一侧带面上,并相邻于对应的主磁区,且该参考讯号磁区的磁极宽度相异于各个该主磁区的磁极宽度。

为获得该具有位置参考讯号磁区的磁带,本发明提供了一种在磁带上形成位置参考讯号磁区的加工方法,其特征在于,它包括如下步骤:

a.取用一具有多个等磁极宽度的主磁区的长条磁带;

b.在该磁带的长轴方向上选定至少一基准点;

c.取用一充磁件,邻接于该磁带上位于该基准点位置部位的一侧带面上进行充磁,并覆盖主磁区的一部,用以改变所覆盖主磁区一部的磁极呈单一磁极,形成一磁极宽度相异于该主磁区他部磁极宽度的参考讯号磁区;

d.移除该充磁件。

所述步骤c中所取用的充磁件为永久磁铁。

所述步骤c中,所述充磁件覆盖至少两个主磁区各自的一部,而使所述参考讯号磁区的磁极宽度大于各个该未受覆盖的主磁区他部的磁极宽度。

另外,为便于该c步骤的实施,本发明提供了一种在磁带上形成位置参考讯号磁区的加工冶具,其特征在于:它包括:一座,该座具有一身部,一开口朝下的定位槽凹设在该身部的底侧端面并直线延伸至该身部底侧端面的两侧端缘;一滑部,该滑部具有一滑体,该滑体滑设于该身部上,可在一上位及一下位位置间上下地往复位移,当位于该下位位置上时,该滑体以底端端面相邻于该定位槽的开口端,当位于该上位位置时,该滑体底端端面远离该定位槽的开口端;一充磁体,该充磁体固设在该滑体的底端端面上,并可随该滑体的位移而在各个该上下位置间移动。

本发明的优点是:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大银微系统股份有限公司,未经大银微系统股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110182161.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top