[发明专利]棉花基质育苗裸苗移栽技术无效
申请号: | 201110182789.3 | 申请日: | 2011-06-30 |
公开(公告)号: | CN102282944A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 黄厚生 | 申请(专利权)人: | 固镇县科茂棉花专业合作社 |
主分类号: | A01C11/02 | 分类号: | A01C11/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 233700 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 棉花 基质 育苗 移栽 技术 | ||
技术领域
本发明涉及农作物栽培技术,具体涉及一种棉花基质育苗裸苗移栽技术。
背景技术
长期以来,棉花育苗移栽一直采用营养钵的方式进行。营养钵育苗为有土育苗,育苗时间长,烂籽烂芽和死苗风险大;生产管理繁琐,劳动强度大,机械化程度低;所需苗床面积大,起苗搬苗易散钵,成苗率不高,移栽费工费力。为此,最近这几年,人们开始逐渐采用棉花无土育苗新技术,此项技术已经推广了几年时间,但由于该项技术尚不完备,造成了移栽成活率不稳定,且移栽后缓苗期较长,从而直接影响了棉花产量。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种成活率高、省时省力的棉花基质育苗裸苗移栽技术。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现,
棉花基质育苗裸苗移栽技术,其特征在于:方法步骤如下,
1、苗床准备:根据大田移栽密度确定苗床面积,一般每亩载1800-2000株,需苗床3.6-4平方米,苗床应高于地面,呈长方形,床宽1-1.5米,床底和四周铺地膜,四周高10-12厘米,膜上铺10厘米厚育苗基质;
2、适时播种:一般在4月上中旬播种,基质浇足底水,以手握成团不渗水为度,按行距10厘米划播种沟,沟深3厘米,保持株距2厘米播种,1穴播1粒,播后再用基质覆盖,抹平、镇压,床面覆盖地膜,上面搭小拱棚,苗床四周开好沟;
3、苗床管理:苗床管理以控为主,主要体现在控温、控水、控制棉苗叶龄,面床温度控制在20-35℃,经常通风降温降湿,防止形成高脚苗;苗床控水管理掌握干长根原则,整个育苗期灌1-2次水;严格控制棉苗在2-3叶期移栽,掌握苗到不等时的原则,移栽前5-7天日夜通风炼苗,移栽前7-10天浇送苗水,起苗时不浇水,在起苗当天喷保叶剂,精细起苗,减少根系损失;
4、提高移栽质量:底墒足、地平面整、土壤疏松,移栽前用促根剂浸泡棉苗根系15-20分钟,并用塑料薄膜包裹根系,将壮苗、弱苗分开移栽,做到深浅适宜,载深可达苗高的一半(6-8厘米),棉苗要扶正压实,浇足安根水。
本发明的有益效果是:
1、苗床成苗率高,按规程操作管理,苗床成活率可达95-100%,大大减低烂籽烂芽和死苗的风险;
2、移栽成活率高,按规定苗龄移栽及规范管理,成活率达95%以上;
3、效益高,一般可增产6-8%,每亩增效80元以上;
4、省种、省地、省时、省力、省工,省种50%以上,苗床于大田面积只比为1∶100以上,可省苗床50%以上,育苗周期短,一般苗龄20-25天,缩短5-7天,取苗方便、运苗省力,一个劳力一天可移栽2-3亩,有效降低棉种的用工费用。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。
棉花基质育苗裸苗移栽技术,方法步骤如下,
1、苗床准备:根据大田移栽密度确定苗床面积,一般每亩载1800-2000株,需苗床3.6-4平方米,苗床应高于地面,呈长方形,床宽1-1.5米,床底和四周铺地膜,四周高10-12厘米,膜上铺10厘米厚育苗基质;
2、适时播种:一般在4月上中旬播种,基质浇足底水,以手握成团不渗水为度,按行距10厘米划播种沟,沟深3厘米,保持株距2厘米播种,1穴播1粒,播后再用基质覆盖,抹平、镇压,床面覆盖地膜,上面搭小拱棚,苗床四周开好沟;
3、苗床管理:苗床管理以控为主,主要体现在控温、控水、控制棉苗叶龄,面床温度控制在20-35℃,经常通风降温降湿,防止形成高脚苗;苗床控水管理掌握干长根原则,整个育苗期灌1-2次水;严格控制棉苗在2-3叶期移栽,掌握苗到不等时的原则,移栽前5-7天日夜通风炼苗,移栽前7-10天浇送苗水,起苗时不浇水,在起苗当天喷保叶剂,精细起苗,减少根系损失;
4、提高移栽质量:底墒足、地平面整、土壤疏松,移栽前用促根剂浸泡棉苗根系15-20分钟,并用塑料薄膜包裹根系,将壮苗、弱苗分开移栽,做到深浅适宜,载深可达苗高的一半(6-8厘米),棉苗要扶正压实,浇足安根水。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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