[发明专利]一种含氧氮杂环的硅烷类化合物及其制备方法和应用及烯烃聚合方法

权利要求书

1.一种含氧氮杂环的硅烷类化合物，其特征在于，该含氧氮杂环的硅烷类化合物具有式(I)所示的结构，

其中，m和n为0或1，且不同时为0；R₁、R₂相同或不相同，各自为直链或支链C₁-C₂₀烷基、C₃-C₂₀环烷基、C₆-C₂₀芳基、C₇-C₂₀烷芳基和C₇-C₂₀芳烷基中的一种；A为C、N或者O，当A为C时，o为1，p为2，R₃为氢；当A为氧时，o＝p＝2，R₃不存在；当A为N时，o＝p＝2，R₃为直链或支链C₁-C₂₀烷基。

2.根据权利要求1所述的含氧氮杂环的硅烷类化合物，其中，R₁和R₂各自为甲基或乙基。

3.根据权利要求1或2所述的含氧氮杂环的硅烷类化合物，其中，R₃是甲基。

4.一种含氧氮杂环的硅烷类化合物的制备方法，该方法包括在置换反应条件下，将式(II)所示的吗啉在溶剂存在下与烃基锂进行第一接触，然后将接触后的产物与式(III)所示的硅氧烷化合物进行第二接触；

上述式(III)中的m、n、R₁、R₂与上述式(I)中的定义相同，R₄、R₅为H或碳原子数为1-2的烷基。

5.根据权利要求4所述的含氧氮杂环的硅烷类化合物的制备方法，其中，所述第一接触的条件包括惰性气体保护气氛，温度为-15℃至20℃，时间为10-200分钟；所述第二接触的条件包括惰性气体保护气氛，温度为-15℃至20℃，时间为1-24小时。

6.根据权利要求4所述的含氧氮杂环的硅烷类化合物的制备方法，其中，以摩尔计，所述式(II)所示的吗啉∶烃基锂∶式(III)所示的硅氧烷化合物＝1∶1-5∶0.1-5；所述溶剂的用量为式(II)所示的吗啉、烃基锂和式(III)所示的硅氧烷化合物总重量的5-30倍。

7.一种含氧氮杂环的硅烷类化合物的制备方法，该方法包括下述方法中的一种：

方法一：在置换反应条件下，将式(II)所示的吗啉在溶剂存在下与烃基锂进行第一接触，然后将第一接触后的产物与式(III)所示的硅氧烷化合物进行第二接触；将式(IV)所示的含氮杂环化合物在溶剂存在下与烃基锂进行第三接触，然后将第三接触后的产物与第二接触后的产物进行第四接触；

方法二：在置换反应条件下，将式(IV)所示的含氮杂环化合物在溶剂存在下与烃基锂进行第五接触，然后将第五接触后的产物与式(III)所示的硅氧烷化合物进行第六接触；将式(II)所示的吗啉在溶剂存在下与烃基锂进行第七接触；然后将第七接触后的产物与第六接触后的产物进行第八接触；

上述式(III)中的m、n、R₁、R₂、R₄、R₅与上述式(I)的定义相同，式(IV)中o、p、A和R₃与上述式(I)的定义相同。