[发明专利]低分子量重钙研磨分散剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201110183054.2 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102363638A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 施晓旦;金霞朝;王养臣 | 申请（专利权）人： | 上海东升新材料有限公司 |
| 主分类号： | C08F120/06 | 分类号： | C08F120/06;C08F220/06;C08F220/14;C08F220/18;C08F222/06;C08F228/02;C08F2/38;C08F2/50;B01F17/52 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 200223 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分子量 研磨 分散剂 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.低分子量重钙研磨分散剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)在惰性气氛中，将单体滴入水、无机链转移剂和光敏引发剂中， 滴加时间为3～6小时，同时在紫外光照射下，进行光引发聚合，单体滴加 完毕后，继续反应0.5～2小时；
(2)然后用NaOH溶液调节pH至4～6，并加水调节固含量至41～43％， 得到目标分散剂。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)～(4)中，原 料的重量份数如下：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述单体为乙烯基 羧酸、乙烯基羧酸酯、乙烯基二羧酸、马来酸酐、乙烯基磺酸钠、烯丙基 磺酸钠或甲基烯丙基磺酸钠中的一种或多种。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述光敏引发剂为二苯 甲酮、二苯甲酮水溶性衍生物、荧光素或曙红，所述无机链转移剂为亚硫 酸氢钠、焦亚硫酸钠或硫代硫酸钠。
5.根据权利要求1～4任一项所述方法制备的低分子量重钙研磨分散 剂。
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