[发明专利]微型针装置的制造方法和相应的微型针装置及其应用有效

专利信息
申请号: 201110183266.0 申请日: 2011-07-01
公开(公告)号: CN102311091A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: M.施通贝尔;F.沙茨 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B1/00;B81B7/04;A61B17/20;A61M37/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 曹若;杨国治
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 微型 装置 制造 方法 相应 及其 应用
【权利要求书】:

1.制造微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’)的方法,具有下述步骤:

- 在基质(1)上形成具有栅格接片(100’、110’;100’’、110’’;100’’’、100’’’),具有相应的栅格交叉区域(10’a;10’’a;10’’’a)和位于其中间的栅格开口(10’b;10’’b;10’’’b)的栅格形的蚀刻掩模(10’;10’’;10’’’);

- 在使用蚀刻掩模(10’;10’’;10’’’;11’’’;12’’’;13’’’;14’’’)的情况下在基质(1)上实施用于形成微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’)的蚀刻工序;

- 取下蚀刻掩模(10’;10’’;10’’’;11’’’;12’’’;13’’’;14’’’);

其特征在于,

栅格形的蚀刻掩模(10’;10’’;10’’)在栅格交叉区域(10’a;10’’a;10’’’a)的至少一部分上具有平面的加强区域(115’;115’’a;115’’b),其超出栅格接片(100’、110’;100’’、110’’;100’’’、110’’’)地延伸。

2.按照权利要求1所述的制造方法,其中,栅格形的蚀刻掩模(10’;10’’;10’’’)具有有不同面积延伸的至少第一和第二平面的加强区域(115’’a;115’’b),并且其中,蚀刻工序是如此进行的,即微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’)具有有不同的第一和第二高度(h1,h2)的相应的第一和第二微型针(200’’a,200’’b)。

3.按照前述权利要求中的任一项所述的制造方法,其中,基质(1)是硅基质,栅格形的蚀刻掩模(10’;10’’;10’’)形成为氧化物掩模。

4.按照前述权利要求中的任一项所述的制造方法,其中,栅格交叉区域(10’a;10’’a;10’’’a)的一部分没有平面的加强区域(115’;115’’a;115’’b)。

5.按照权利要求4所述的制造方法,其中,栅格交叉区域(10’a;10’’a;10’’’a)的没有平面的加强区域(115’;115’’a;115’’b)的那部分位于栅格形的蚀刻掩模(10’;10’’;10’’’)的内部区域中。

6.微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’),具有多个在基质(1)上形成的微型针(200’’a、200’’b;200’’a,200’’’b、200’’c),这些微型针具有不同的高度(h1、h2;h1、h2、h3)。

7.按照权利要求6所述的微型针装置(20’;20’’;21’’’;22’’’),这些微型针装置具有有不同的第一和第二高度(h1、h2)的至少第一和第二微型针(200’’a、200’’b)。

8.按照权利要求7所述的微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’),其中,第一和第二高度(h1、h2)的高度差在20%至50%的范围中。

9.按照权利要求6所述的微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’),所述微型针装置具有有不同的第一、第二和第三高度(h1、h2、h3)的第一、第二和第三微型针(200’’’a、200’’’b、200’’’c)。

10.按照权利要求9所述的微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’),其中,第三微型针(200’’’c)具有为最小高度的第三高度(h3),并且其中,只在微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’)的内部区域中设置第三微型针(200’’’c)。

11.按照权利要求6所述的微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’),将其设计用于对人体或者动物体进行纹身。

12.将具有多个在基质(1)上形成的,且具有不同高度(h1、h2;h1、h2、h3)的微型针(200’’a、200’’b;200’’a、200’’’b、200’’’c)的微型针装置(20’;20’’;20’’’;21’’’;22’’’)用于对人体或者动物体进行纹身。

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