[发明专利]局部曝光装置和局部曝光方法

权利要求书

1.一种局部曝光装置，其用于对形成在基板上的感光膜的规定区域进行曝光处理，该局部曝光装置的特征在于，

其包括：

基板输送部件，其用于形成基板输送路径，并将上述基板沿着上述基板输送路径水平地输送；

腔室，其用于覆盖上述基板输送路径的规定区间并且形成对上述基板进行曝光处理的空间；

光源，其具有多个的发光元件，能够利用上述发光元件的发光对被在上述发光元件的下方输送的基板上的感光膜照射光，该发光元件沿着与基板输送方向相交叉的方向呈线状地排列在上述腔室内且在上述基板输送路径的上方；

发光驱动部，其能够将构成上述光源的多个的发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；

基板检测部件，其配置在上述基板输送路径的比上述光源靠上游侧的位置，用于对被上述基板输送部件输送的上述基板进行检测；

控制部，其被供给上述基板检测部件的基板检测信号，并且控制由上述发光驱动部对上述发光元件进行的驱动；

上述控制部对上述发光驱动部进行控制的方式如下所述：根据上述基板检测部件的基板检测信号与基板输送速度来获得基板输送位置，形成在上述基板上的感光膜的规定区域通过上述光源的下方时，只有上述多个发光元件中的能够向上述规定区域进行照射的发光元件发光。

2.一种局部曝光装置，其用于对形成在基板上的感光膜的规定区域进行曝光处理，该局部曝光装置的特征在于，

其包括：

腔室，其用于对形成有感光膜的上述基板进行收容并且形成对上述基板进行曝光处理的空间；

基板保持部件，其用于在上述腔室内保持上述基板；

光源，其具有多个发光元件，能够利用上述发光元件的发光对被上述基板保持部件保持的基板上的感光膜照射光，该发光元件呈线状地排列在上述腔室内的上述基板保持部件的上方；

发光驱动部，其能够将构成上述光源的多个的发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；

移动部件，其用于使上述多个发光元件与基板相对地进行平行移动；

控制部，其控制由上述发光驱动部对上述发光元件进行的驱动；

上述控制部对上述发光驱动部进行控制的方式如下所述：形成在上述基板上的感光膜的规定区域通过上述光源的下方时，只有上述多个发光元件中的能够向上述规定区域进行照射的发光元件发光。

3.一种局部曝光装置，其用于对形成在基板上的感光膜的规定区域进行曝光处理，该局部曝光装置的特征在于，

其包括：

腔室，其用于对形成有感光膜的上述基板进行收容并且形成对上述基板进行曝光处理的空间；

基板保持部件，其用于在上述腔室内保持上述基板；

光源，其与被上述基板保持部件保持的上述基板的被处理面相对的发光面由多个的发光元件的集合体形成，能够利用上述发光元件的发光对上述基板上的感光膜照射光；

发光驱动部，其能够将构成上述光源的多个的发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；

控制部，其控制由上述发光驱动部对上述发光元件进行的驱动；

上述控制部对上述发光驱动部进行控制的方式如下所述：在形成上述发光面的上述多个的发光元件中能够向形成在上述基板上的感光膜的规定区域进行照射的发光元件发光。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的局部曝光装置，其特征在于，

利用上述发光驱动部使形成上述光源的多个的发光元件各自的发光的照度可变；

根据预先设定的照度对照射上述感光膜的规定区域的一个或者多个发光元件分别进行发光控制。

5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的局部曝光装置，其特征在于，

在上述光源的下方设有光扩散板；

从上述光源发出的光经由上述光扩散板对上述基板进行辐射。

6.根据权利要求1至3中的任意一项所述的局部曝光装置，其特征在于，

该局部曝光装置具有：

在上述光源的下方将上述发光元件的光变为平行光的部件；

将通过了形成该平行光的部件的光聚光为带状区域的光的部件；

从上述光源发出的光经由上述形成平行光的部件和上述聚光为带状区域的光的部件对上述基板进行辐射。