[发明专利]用于制程监控的电路组件结构

权利要求书

1.一种用于制程监控的电路组件结构，包括：

第一孔链，具有第一前端点及第一尾端点；

第二孔链，具有第二前端点及第二尾端点，且与该第一孔链之间间隔一第一间隙，且该第一前端点与第二前端点相邻，第一尾端点与第二尾端点相邻；

第一浮动金属层，其形成于该第一孔链与该第二孔链之间的该第一间隙中，且并未与该第一孔链及该第二孔链接触；以及

第一弧形连接部，其绕过该第一浮动金属层连接该第一前端点与第二前端点。

2.根据权利要求1所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第二孔链平行于该第一孔链。

3.根据权利要求2所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第二孔链在一直线方向上平行于该第一孔链。

4.根据权利要求1所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第一孔链包括多个第一上层金属片、第一下层金属片及第一通孔，其中，各该第一上层金属片与第一下层金属片彼此错位，并通过各该第一通孔电性连接该第一上层金属片与第一下层金属片，以构成串联结构。

5.根据权利要求1所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第二孔链包括多个第二上层金属片、第二下层金属片及第二通孔，其中，各该第二上层金属片与第二下层金属片彼此错位，并通过各该第二通孔电性连接该第二上层金属片与第二下层金属片，以构成串联结构。

6.根据权利要求1所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该结构还包括：

第三孔链，其具有第三前端点及第三尾端点，且与该第二孔链之间间隔一第二间隙，使该第二孔链介于该第一孔链与第三孔链之间，且该第二前端点与第三前端点相邻，第二尾端点与第三尾端点相邻；

第二浮动金属层，其形成于该第二孔链与该第三孔链之间的该第二间隙中，且并未与该第二孔链及该第三孔链接触；以及

第二弧形连接部，其绕过该第二浮动金属层连接该第二尾端点与第三尾端点。

7.根据权利要求6所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第三孔链平行于该第二孔链。

8.根据权利要求7所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第三孔链在一直线方向上平行于该第二孔链。

9.根据权利要求6所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第三孔链包括多个第三上层金属片、第三下层金属片及第三通孔，其中，各该第三上层金属片与第三下层金属片彼此错位，并通过各该第三通孔电性连接该第三上层金属片与第三下层金属片，以构成串联结构。

10.根据权利要求6所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第一间隙的宽度等于该第二间隙。

11.根据权利要求6所述的用于制程监控的电路组件结构，其特征在于，该第一间隙的宽度大于或小于该第二间隙。