[发明专利]可变磁阻装置、台设备、光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种可变磁阻装置，包括：

(a)第一和第二磁性部件，相对于彼此是可位移的、以提供具有可变磁阻的磁路；

(b)线圈，在使用时用于接收用于产生通过所述磁路的磁通量的电流；

(c)测量线圈，用于产生表示通过所述磁路的磁通量的测量信号，由此测量线圈布置成基本上封闭通过所述磁路的磁通量；和

(d)控制单元，布置成在输入端子处接收测量信号，并且响应地基于测量信号在输出端子处提供控制信号，用于控制另一装置的力或电流的幅值。

2.根据权利要求1所述的可变磁阻装置，其中，所述第一磁性部件包括C芯或E芯，测量线圈将围绕C芯或E芯的腿部缠绕。

3.根据权利要求1所述的可变磁阻装置，其中，所述测量线圈至少部分地布置在将第一磁性部件和第二磁性部件分开的空气间隙中。

4.根据前述权利要求中任一项所述的可变磁阻装置，其中，所述测量线圈的基本上垂直于磁通量的横截面被选择以便最小化所述装置的实际的力和在所述装置的操作区域内的计算的力之间的偏差，该计算的力Fc由如下关系式确定：

其中k是常数，表示从测量信号得出的磁通量。

5.根据引用权利要求2的前述权利要求中任一项所述的可变磁阻装置，其中，所述测量线圈相对于腿部的位置被选择成以便最小化所述装置的实际的力和在所述装置的操作区域内的计算的力之间的偏差，该计算的力Fc由如下关系式确定：

其中k是常数，表示从测量信号得出的磁通量。

6.根据前述权利要求中任一项所述的可变磁阻装置，其中，所述第一和/或第二磁性部件还包括永磁体，用于产生通过磁路的磁通量，由此在第一和第二磁性部件之间产生偏磁力。

7.一种用于定位物体的台设备，所述设备包括：

(a)物体台，用于容纳所述物体；

(b)基部，用于支撑物体台，和

(c)根据前述权利要求中任一项的可变磁阻装置，用于相对于基部定位物体台。

8.根据权利要求6所述的台设备，还包括用于定位物体台的另一装置，控制单元还布置成在使用时控制由另一装置提供的力。

9.根据权利要求8所述的台设备，其中，所述控制信号被传送通过低通滤波器，用于获得第一滤波控制信号，并且被传送通过高通滤波器，用于获得第二滤波控制信号，由此第一滤波控制信号被应用用于控制可变磁阻装置的电流，并且由此第二滤波控制信号被应用用于控制另一装置的力。

10.一种光刻设备，包括：

(a)照射系统，配置成调节辐射束；

(b)支撑结构，构造成支撑图案形成装置，图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；

(c)衬底台，构造成保持衬底；和

(d)投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，

其中所述设备还包括根据权利要求7-10中任一项所述的台，用于定位图案形成装置或衬底。

11.一种器件制造方法，包括将图案从图案形成装置转移至衬底上的步骤，其中所述方法包括步骤：通过根据权利要求7-9中任一项所述的台设备定位图案形成装置和/或衬底。

12.一种用于定位物体的台设备，所述设备包括：

物体台，配置成容纳所述物体；

基部，配置成支撑物体台；和

可变磁阻装置，配置成相对于基部定位物体台，所述可变磁阻装置包括：

第一和第二磁性部件，配置成相对于彼此可位移并且提供具有可变磁阻的磁路，

线圈，配置成接收电流并且生成通过所述磁路的磁通量，

测量线圈，配置成生成表示通过所述磁路的磁通量的测量信号，由此测量线圈布置成基本上封闭通过所述磁路的磁通量，和

控制单元，布置成在输入端子处接收测量信号并且响应地基于测量信号在输出端子处提供控制信号，用于控制另一装置的力或者电流的幅值。

13.根据权利要求12所述的台设备，还包括用于定位物体台的另一装置，控制单元还布置成控制由另一装置提供的力。