[发明专利]等离子增强化学气相淀积基座支撑设备

权利要求书

1.一种用于在一淀积反应腔中支撑一矩形基座的设备，包含：

至少一支撑架，位于所述淀积反应腔外侧；

多个支撑轴，连接至所述至少一支撑架以支撑所述矩形基座；以及

至少四个支撑板，位于所述多个支撑轴和所述基座之间。

2.如权利要求1所述的设备，其进一步包含：

至少一致动器，连接至所述至少一支撑架。

3.如权利要求1所述的设备，所述至少一支撑架进一步包含：

一第一支撑架，位于所述反应腔外侧，其是连接至多个适于支撑基座中的一个边缘的轴杆；以及

一第二支撑架，位于所述反应腔外侧，其是连接至至少一适于支撑所述基座中的一个中心区域的支撑轴。

4.一种用于在一淀积反应腔中支撑一基座的方法，包括：

利用至少一支撑轴支撑所述基座的一中心区域；以及

利用多个支撑轴支撑所述基座的一边缘，其中所述至少一支撑轴及多个支撑轴是延伸至所述反应腔外侧，且连接到至少一垂直致动器。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，一支撑组件连接至所述至少一支撑轴以及所述多个支撑轴的至少多个。

6.如权利要求4所述的方法，其进一步包含：

提供一连接至所述至少一支撑轴的第一垂直致动器以及至少一连接至所述多个支撑轴的第二垂直致动器；以及

通过选择性启动所述第一及所述至少第二垂直致动器的方式调整所述基座的一水平轮廓。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一垂直致动器及所述至少第二垂直致动器是独立作控制。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，一支撑组件连接至所述至少一支撑轴以及所述多个支撑轴的至少若干个。

9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述所要求的水平轮廓为平面。

10.一种基座支撑设备，包括：

多个支撑板，适于接触一淀积反应腔中的一基座，所述多个支撑板中的至少一个适于在所述基座的边缘处接触所述基座，且所述多个支撑板连接至延伸于所述淀积反应腔外侧的至少两个支撑轴；

至少一架，连接至所述至少两个支撑轴；

一移动块，连接至所述至少一架；

一单一致动器，连接至所述移动块；

一密封物，将所述设备与所述至少两个支撑轴周围的周边环境隔离；以及

一冷却块，连接至所述密封物。

11.如权利要求10所述的设备，其特征在于，所述多个支撑板中的每一个都包括：

陶瓷材料。

12.如权利要求11所述的设备，其特征在于，所述多个支撑板中的至少一个具有圆形形状。

13.如权利要求11所述的设备，其特征在于，所述多个支撑板中的至少一个具有矩形形状。

14.如权利要求10所述的设备，其特征在于，所述多个支撑板中的至少两个连接至所述至少两个支撑轴之一，其中一分支板位于它们之间。

15.如权利要求10所述的设备，其特征在于，还包括：连接于所述多个支撑板和所述至少两个支撑轴之间的纵向板。

16.一种用于在一淀积反应腔中支撑一基板的设备，包括：

基座，包含第一材料；

多个基座支撑板，位于所述基座下方并与所述基座相接触，所述基座支撑板包括与所述第一材料不同的第二材料；

多个支撑轴，连接至所述多个基座支撑板；

至少一架，连接至所述多个支撑轴；

移动块，连接至所述至少一架；

一单一致动器，位于所述多个支撑板下方并连接至所述移动块，且所述多个支撑轴中的至少两个位于所述多个支撑板的下方并延伸至所述淀积反应腔外侧；

一密封物，将所述设备与所述多个支撑轴周围的周边环境隔离；以及

一冷却块，连接至所述密封物。

17.如权利要求16所述的设备，其特征在于，所述多个支撑板包括矩形形状、圆形形状或者这两者的组合。

18.如权利要求16所述的设备，其特征在于，还包括：

中心板，连接至所述致动器，适于支撑所述基座的中心区域。