[发明专利]一种BN型离子门及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110190302.6 申请日: 2011-07-07
公开(公告)号: CN102867729A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 李海洋;杜永斋;王卫国 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06;H01J9/00
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 bn 离子 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种BN型离子门,包括中部设有孔洞的板状基材(1)和第一金属丝组(2)和第二金属丝组(3),其特征在于:

基材(1)表面在孔洞的二侧分别设有覆铜线(4),两组覆铜线(4)的一端分别设有接电小孔(6);

于孔洞的上方第一金属丝组(2)和第二金属丝组(3)中的金属丝的相互交错平行基材板面排布,第一金属丝组(2)中的金属丝的一端与两组覆铜线(4)中的一组固定连接,第二金属丝组(3)中的金属丝的一端与两组覆铜线(4)中的另一组固定连接,金属丝的另一端固定在基材(1)上,两组覆铜线(4)之间相互绝缘;第一金属丝组(2)和第二金属丝组(3)于基材(1)的表面上形成交替排列、互相绝缘的等间距平行的金属丝平面。

2.如权利要求1所述的离子门,其特征在于:

所述基材(1)是选用绝缘性电路板基材,通过印刷电路板PCB技术制作的而成的;基材(1)上设有PCB刻蚀的两组覆铜线(4)。

3.如权利要求1所述的离子门,其特征在于:

覆铜线(4)上均匀设有贯穿基材(1)的穿金属丝小孔(5),第一金属丝组(2)和第二金属丝组(3)中的金属丝一端的分别通过穿金属丝小孔(5)与两组覆铜线(4)固连;相对应的在金属丝的另一端也同样设有贯穿基材(1)的穿金属丝小孔(5),金属丝的另一端通过穿金属丝小孔(5)固定在基材(1)上。

4.如权利要求1所述的离子门,其特征在于:

两组覆铜线(4)间相互对称;两组覆铜线(4)的一端分别设有贯穿基材(1)的接电小孔(6)。

5.一种权利要求1所述离子门的制作方法,其特征在于:

1)选用绝缘性电路板通过印刷电路板PCB技术制作基材(1),于基材(1)中部开孔洞;于基材(1)上孔洞两PCB刻蚀两组相互对称覆铜线(4);于基材(1)上和覆铜线(4)上通过PCB技术刻蚀穿金属丝小孔(5),小孔排布成能形成等间距共平面金属丝阵列的结构;

两组覆铜线(4)的一端分别通过PCB技术刻蚀贯穿基材(1)的接电小孔(6);

2)第一金属丝组(2)和第二金属丝组(3)中的金属丝可以采用柔性或刚性材质;

采用刚性材质时,分段折弯嵌入到对应的阵列小孔中并将金属丝处于基材(1)表面的两端固定,两组金属丝形成共平面、等间距交替排列的、互相绝缘的金属丝平面;

或,采用柔性材质时,金属丝直接穿入到对应的阵列小孔中并将金属丝处于基材(1)表面的两端固定,两组金属丝形成共平面、等间距交替排列的、互相绝缘的金属丝平面。

6.如权利要求5所述离子门的制作方法,其特征在于:

两组覆铜线(4)分别通过其的接电小孔(6)与外电源相连;通过基材上的覆铜线(4)及接线小孔(6)给两金属丝组施加控制离子的电位差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110190302.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top