[发明专利]波长复用器/解复用器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110191067.4 申请日: 2011-07-04
公开(公告)号: CN102313925A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 川岛洋志;奈良一孝;长谷川淳一 申请(专利权)人: 古河电气工业株式会社
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12;G02B6/13
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 谷惠敏;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 波长 复用器 解复用器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种波长复用器/解复用器,包括:

具有耦合到一个或多个第一波导的两个支路波导的马赫-增德尔干涉仪;以及

阵列波导衍射光栅,其包括耦合到所述马赫-增德尔干涉仪的第一平板波导、耦合到所述第一平板波导的具有多个不同光学路径长度的波导的阵列波导、耦合到所述阵列波导的第二平板波导、以及平行地布置并耦合到所述第二平板波导的多个第二波导,其中,

所述第一平板波导在与通过所述第一平板波导的光的路径相交的平面中分离,所述波长复用器/解复用器进一步包括:

第一构件,在其中提供了分离的第一平板波导中的一个和所述马赫-增德尔干涉仪;

第二构件,在其中提供了分离的第一平板波导中的另一个和所述阵列波导;以及

温度补偿机构,其通过根据温度的变化移动所述第一构件和所述第二构件中的至少一个来改变所述分离的第一平板波导中的一个和所述分离的第一平板波导中的另一个之间的相对位置,从而阵列波导衍射光栅的传输中心波长的温度依赖性降低,其中

在所述马赫-增德尔干涉仪的两个支路波导中的至少一个中形成有与所述支路波导交叉设置的沟槽,并且

在所述沟槽中以及在所述分离的第一平板波导中的一个和所述另一个之间填充相同的补偿材料,所述相同的补偿材料具有匹配所述阵列波导衍射光栅的波导芯和所述马赫-增德尔干涉仪的折射率的折射率、与所述波导芯的温度依赖系数不同的温度依赖系数、和可塑性或流动性。

2.根据权利要求1的波长复用器/解复用器,其中所述补偿材料是液体。

3.根据权利要求1的波长复用器/解复用器,其中所述补偿材料是凝胶。

4.根据权利要求1的波长复用器/解复用器,其中所述补偿材料是硅树脂。

5.一种用于制造根据权利要求1所述的波长复用器/解复用器的方法,所述方法包括以下步骤:

制备下述构造,其中形成有所述阵列波导衍射光栅、所述马赫-增德尔干涉仪、以及所述温度补偿机构;并且

将相同的补偿材料填充到所述沟槽中,以及所述分离的第一平板波导中的一个和另一个之间。

6.根据权利要求5的方法,进一步包括以下步骤:

在填充相同的补偿材料之前,将所述相同的补偿材料填充到所述沟槽中;

对所述马赫-增德尔干涉仪执行相位修整,从而所述阵列波导衍射光栅的传输波长特性和所述马赫-增德尔干涉仪的传输波长特性彼此同步;并且

在所述相位修整完成之后,移除填充到所述沟槽中的所述补偿材料。

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