[发明专利]罐底腐蚀声发射检测中声源分布区域的自动识别方法有效
申请号: | 201110191113.0 | 申请日: | 2011-07-08 |
公开(公告)号: | CN102269736A | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | 王伟魁;李一博;曾周末;靳世久;杜刚 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G01N29/44 | 分类号: | G01N29/44;G01N29/14 |
代理公司: | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人: | 王顕 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 腐蚀 声发 检测 声源 分布 区域 自动识别 方法 | ||
1.一种罐底腐蚀声发射检测中声源分布区域的自动识别方法,包括以下步骤:
S100:获取储罐罐底每个声发射源的坐标(x,y);
S101:设置矩阵M的行数和列数n,设置小波编号w=1,获取小波类型表中小波的数量wn,设置初始声发射源分布信息熵H0=0;
S102:建立n×n的矩阵M;
S103:根据声发射源的坐标计算出每个声发射源在矩阵M中对应的列Mx和行My;
S104:将M(Mx,My)的值设置为被映射到M(Mx,My)的声发射源数量;
S105:对矩阵M进行1次二维离散小波变换,取其低频系数,得到新的矩阵Mhh;
S106:设置初始区域数量na=0,建立与Mhh一样大小的矩阵F;
S107:依次查看Mhh中的每一个元素,根据其相邻元素的值设置F中对应位置元素的值;
S108:计算每个声发射源在矩阵F中的位置;
S109:将每个声发射源与矩阵F中所对应的元素的值作为该声发射源所属区域的编号;
S110:计算声发射源分布信息熵H;
S111:判断H是否大于H0,若H大于H0,执行步骤S112,否则执行步骤S114;
S112:统计矩阵F中每种元素值的数量,计算各区域的面积;
S113:计算区域中声发射源分布密度;
S114:设置w=w+1;
S115:判断w是否大于wn,若w大于wn,执行步骤S116,否则执行步骤S105;
S116:设置n=n+步进值,该步进值为非0自然数;
S117:判断n是否大于储罐直径/0.03,若大于,则结束,否则执行步骤S102。
2.根据权利要求1所述的自动识别方法,其特征在于:所述步骤S107 的子步骤如下:
S201:获取矩阵Mhh的行数LN,列数CN,设置当前查看的行i=1,列j=1
S202:判断Mhh(i,j)是否等于0,若Mhh(i,j)等于0,则执行步骤S203,否则执行步骤S204;
S203:设置F(i,j)=0,执行步骤S210;
S204:统计F(i,j)相邻元素值非0的种类,建立集合x,每种值为集合x中的一个元素;
S205:判断x是否为空集,若x是空集,则执行步骤S206,否则执行步骤S207;
S206:建立新区域,设置na=na+1,设置F(i,j)=na,执行步骤S210;
S207:设置F(i,j)=x(1);
S208:判断x中元素个数是否大于1,若x中元素个数大于1,则执行步骤S209,否则执行步骤S210;
S209:F中与x中元素值相等的元素值全部设置成x(1);
S210:设置j=j+1;
S211:判断j是否大于CN,若j大于CN则执行步骤S212,否则执行步骤S202;
S212:设置j=1,i=i+1
S213:判断i是否大于LN,若i大于LN则结束,否则执行步骤S202。
3.根据权利要求1或2所述的自动识别方法,其特征在于:在步骤S102中,矩阵M的行数和列数n的取值范围为:100≤n≤储罐直径/0.03,且n为自然数。
4.根据权利要求1或2所述的自动识别方法,其特征在于:在步骤S103中,每个声发射源在矩阵M中对应的列Mx和行My按式(1)计算得出;
其中:[]为取整运算,(x,y)为声发射源坐标,D为储罐直径。
5.根据权利要求1或2所述的自动识别方法,其特征在于:在步骤S108中,每个声发射源在矩阵F中的位置由式(2)计算得出:
其中:j为声发射源在矩阵F中的列,
i为声发射源在矩阵F中的行,
LN为矩阵F的行数,
CN为矩阵F的列数。
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