[发明专利]改性共轭二烯系聚合物及其制造方法

权利要求书

1.一种改性共轭二烯系聚合物，其特征在于，该改性共轭二烯系聚合物在将共轭二烯化合物聚合所得到的共轭二烯系聚合物或将共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚所得到的共轭二烯系聚合物上结合有改性基团，该改性基团基于分子中具有2个以上叔氨基和1个以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物，并且，该改性共轭二烯系聚合物的活性末端被多官能性改性剂偶合。

2.如权利要求1所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，所述多官能性改性剂是分子中含有氨基的缩水甘油基化合物。

3.如权利要求1所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，该改性共轭二烯系聚合物以如下通式(1)、通式(2)或通式(3)表示：

通式(1)中，P是共轭二烯系聚合物；R¹、R²是碳原子数为1～12的烃基，其中存在或不存在不饱和键，并且R¹、R²相同或不同；R³是碳原子数为1～20的烃基，其中存在或不存在不饱和键；R⁴、R⁵、R⁶、R⁷是碳原子数为1～20的烃基或取代有含有Si、O或N且不具有活性氢的有机基的碳原子数为1～20的烃基，其中存在或不存在不饱和键，并且R⁴、R⁵、R⁶、R⁷相同或不同；f是1～2的整数，d是1～2的整数，e是0～1的整数，并且d+e+f＝3；

通式(2)中，P、R¹、R³、R⁴、d、e、f的定义与通式(1)中相同；R⁸、R⁹是碳原子数为1～6的脂肪族烃基，其中存在或不存在不饱和键，并且R⁸、R⁹相同或不同；R¹⁰是碳原子数为1～20的烃基或取代有含有Si、O或N且不具有活性氢的有机基的碳原子数为1～20的烃基，其中存在或不存在不饱和键；

通式(3)中，P、R³、R⁴、R⁷、d、e、f的定义与通式(1)中相同，R⁸、R¹⁰的定义与通式(2)中相同，R¹¹是碳原子数为1～6的烃基。

4.如权利要求1所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，该改性共轭二烯系聚合物以如下通式(4)表示：

通式(4)中，P、R³、R⁵、R⁶的定义与通式(1)中相同；R¹²、R¹³是碳原子数为1～12的烃基，其中存在或不存在不饱和键，且R¹²、R¹³相同或不同；R¹⁴、R¹⁵是碳原子数为1～20的烃基或取代有含有Si、O或N且不具有活性氢的有机基的碳原子数为1～20的烃基，其中存在或不存在不饱和键，并且R¹⁴、R¹⁵相同或不同。

5.如权利要求3所述的改性共轭二烯系聚合物，其中，通式(1)、通式(2)或通式(3)中，R⁴是碳原子数为1～20的烃基，并且该烃基中存在或不存在不饱和键。

6.一种改性共轭二烯系聚合物的制造方法，其特征在于，使用碱金属系引发剂和/或碱土金属系引发剂，在烃溶剂中使共轭二烯化合物聚合或者使共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚，然后使所得到的聚合物的活性末端与分子中具有2个以上叔氨基和1个以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物反应。