[发明专利]水基6H-SiC单晶衬底化学机械抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种水基6H-SiC单晶衬底化学机械抛光液，其特征在于，其组分与重量百分比如下：

磨料选用纳米SiO₂水溶胶或Al₂O₃或纳米金刚石微粉之一或其混合物。

2.按照权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于：所述的纳米SiO₂水溶胶、Al₂O₃及纳米金刚石微粉的粒径是10～250nm。

3.按照权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于：所述的分散稳定剂为一种高分子表面活性剂，所述分散稳定剂为聚乙烯醇、聚丙二醇、壬基酚聚氧乙烯醚中的一种或两种或三种的混合物，按重量百分比计，其在抛光液中的总浓度为0.05～15％。

4.按照权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于：所述PH值调节剂为氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、二羟乙基乙二胺中的一种或两种以上的混合物，调节PH值处于9.5～13.5之间。

5.按照权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于：所述的化学添加剂为1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、乙醇胺、三乙醇胺、1，3-丁二醇、过氧化氢中的一种或两种或三种的混合物。

6.按照权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于：所述的润滑剂为一种球形纳米粉末，其粒径为1～5nm。

7.一种水基6H-SiC单晶衬底化学机械抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)取适量的去离子水与分散稳定剂经超声或搅拌成均匀的去离子水混合溶液备用，其中分散稳定剂在混合溶液中的重量百分比为：0.01～10％；

(2)按一定比例在上述备用液中加入磨料，经超声或搅拌，分散均匀，磨料选用纳米SiO₂水溶胶或Al₂O₃或纳米金刚石微粉之一或其混合物；

(3)加入适量的化学添加剂，经超声或搅拌，分散均匀；

(4)加入适量的润滑剂，经超声或搅拌，分散均匀；

(5)加入pH值调节剂，调节pH值，搅拌或超声，使pH值达到9.5～13.5，即可制得所需要的抛光液。

8.根据权利要求7所述的的制备方法，其特征在于，所述pH值调节剂是氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、二羟乙基乙二胺的一种或多种。

9.根据权利要求7所述的的制备方法，其特征在于，所述的纳米SiO₂水溶胶、Al₂O₃及纳米金刚石微粉的粒径是10～250nm。

10.根据权利要求7所述的的制备方法，其特征在于，所述的化学添加剂为1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、乙醇胺、三乙醇胺、1，3-丁二醇、过氧化氢中的一种或两种或三种的混合物。