[发明专利]2D涡流线圈及其制造方法和涡流检验方法有效
申请号: | 201110193603.4 | 申请日: | 2011-07-07 |
公开(公告)号: | CN102375026A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | B·勒帕格 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯NDT公司 |
主分类号: | G01N27/90 | 分类号: | G01N27/90;H01F41/04 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涡流 线圈 及其 制造 方法 检验 | ||
1.一种制造2D涡流线圈的方法,所述2D涡流线圈仿真能够对测试表面进行涡流检验的3D涡流线圈,所述方法包括以下步骤:
a.确定所述测试表面上与所述3D涡流线圈有关的第一涡流流的特性,其中,所述第一涡流流的特性包括具有定义以相反方向卷绕的至少两个涡旋的连续流的流图案;以及
b.构建所述2D涡流线圈,以使得当所述2D涡流线圈以与所述测试表面相对且平行于所述测试表面的方式配置时,所述2D涡流线圈产生特性与所述第一涡流流的特性相似的第二涡流流,并且所述2D涡流线圈被配置成能够选择性地用作以下之一:
涡流驱动器,
涡流驱动器和接收器,以及
涡流接收器。
2.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,还包括使用印刷电路板制造技术来制作所述2D涡流线圈。
3.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,所述2D涡流线圈的形状和图案与所述第一涡流流的形状和图案大致一致。
4.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,所述2D涡流线圈的形状和图案与所述第一涡流流的形状和图案相似一致。
5.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,使用一个导电性的延续电路元件,使所述2D涡流线圈卷绕为大致相同但以相反方向卷绕的成对的绕组。
6.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,使用一个导电性的延续电路元件,使所述2D涡流线圈卷绕为形状不同且沿着相反方向卷绕的成对的绕组。
7.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,所述2D涡流线圈至少包括分离的第一线圈部和第二线圈部,其中,所述第一线圈部和所述第二线圈部的卷绕方向相同,所述第一线圈部和所述第二线圈部是以存在180度相位差的方式单独驱动的,并且所述第一线圈部和所述第二线圈部配置在与所述测试表面平行的同一平面上。
8.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,所述3D涡流线圈是完全式驱动器和接收器型,并且所述2D涡流线圈是完全式驱动器和接收器型。
9.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,
所述3D涡流线圈还包括驱动绕组和接收绕组,其中,所述接收绕组以垂直于所述驱动绕组的方式卷绕,以及
所述2D涡流线圈还包括2D驱动绕组和2D接收绕组,其中,所述2D接收绕组以与所述2D驱动绕组正交的方式配置。
10.根据权利要求1所述制造2D涡流线圈的方法,其特征在于,在数量上增加所述2D涡流线圈,并且相同的多个2D涡流线圈以交错方式串联配置和/或配置在多个层中。
11.一种2D涡流线圈,用于仿真能够利用第一涡流流对测试表面进行涡流检验的3D涡流线圈,其中,所述2D涡流线圈在以与所述测试表面相对且平行于所述测试表面的方式配置时,生成特性与所述3D涡流线圈所生成的第一涡流流的特性相似的第二涡流流,其中,所述第一涡流流的特性包括具有定义以相反方向卷绕的至少两个涡旋的连续流的流图案,并且所述2D涡流线圈能够选择性地用作以下之一:
涡流驱动器;
涡流驱动器和接收器;以及
涡流接收器。
12.根据权利要求11所述的2D涡流线圈,其特征在于,所述2D涡流线圈是使用印刷电路板制造技术所制作的类型。
13.根据权利要求11所述的2D涡流线圈,其特征在于,所述2D涡流线圈的形状和图案与所述第一涡流流的形状和图案大致一致。
14.根据权利要求11所述的2D涡流线圈,其特征在于,所述2D涡流线圈的形状和图案与所述第一涡流流的形状和图案相似一致。
15.根据权利要求11所述的2D涡流线圈,其特征在于,所述2D涡流线圈通过一个导电性的延续电路元件而被卷绕为相同但以相反方向卷绕的成对的绕组。
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