[发明专利]硅片清洗设备以及储液罐

说明书

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，更具体地说，涉及硅片清洗设备及储液罐。

背景技术

由于硅片关键尺寸的持续缩小，硅片表面在经受工艺之前必须是洁净的。控制沾污最有效途径是防止沾污硅片，其中占统治地位的硅片表面清洗方法是湿化学法，湿化学法是用化学药剂与硅片表面需要去除的沾污物进行反应，使得沾污物从硅片表面剥离从而达到清洗的目的。

传统的湿化学法在清洗槽中进行，由一系列安装在烟雾罩中的酸槽和清洗槽组成，其中酸槽和清洗槽统称为储液罐。为了方便观察储液罐中化学药剂的高度，如图1所示，储液罐11上设置有显液管12，该显液管12的一端开口，另一端与储液罐11的底部相连通，操作人员通过肉眼观察显液管12内的液位高度来判断储液罐11内化学药剂14的高度，或者通过设置在显液管12中的液位传感器13来判断储液罐11内化学药剂14的高度，从而保证储液罐11中的化学药剂14处于最为理想的液位高度。但是，由于储液罐11中的化学药剂14和显液管12通常为透明状态，通过肉眼观察不易分辨出化学药剂14的实际高度。而且显液管12中的液体与储液罐11中液体相同，经常会有沉淀物等沾污物产生，这些沾污物很容易附着在显液管12上，一方面由于沾污物遮挡视线，肉眼无法观察到显液管12中的实际液位高度，另一方面由于沉淀物附着在显液管12的管壁上液位传感器13会出现误报现象。

因此，如何研究出一种其显液管中不易产生污染物的硅片清洗设备及其储液罐，成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种硅片清洗设备及其储液罐，以实现减少显液管中沾污物产生的目的。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种储液罐，包括主罐体和显液管，所述显液管一端开口，另一端与所述主罐体相连通，所述显液管与所述主罐体之间还设置有可全部或部分展开并将上述二者分隔开来的胶囊体。

优选的，在上述储液罐中，所述主罐体和所述显液管之间还设置有与二者相连通的储液囊，所述胶囊体设置在所述储液囊内。

优选的，在上述储液罐中，所述胶囊体末端通过中间呈中空状态的盖板设置在所述储液囊上。

优选的，在上述储液罐中，所述盖板的数量为两个，其中，第二盖板设置在第一盖板的中空部位并将所述胶囊体设置在所述第一盖板和第二盖板的中间。

优选的，在上述储液罐中，所述储液囊为圆筒状结构。

优选的，在上述储液罐中，所述胶囊体的最大展开体积大于或等于所述储液囊体积。

优选的，在上述储液罐中，所述胶囊体上还设置有出气管。

优选的，在上述储液罐中，所述出气管设置在胶囊体的顶端。

优选的，在上述储液罐中，所述胶囊体的顶端还设置有隔板。

一种硅片清洗设备，包括烟雾罩和具有上述结构的储液罐，所述储液罐设置在所述烟雾罩内部。

从上述技术方案可以看出，本发明实施例中的储液罐在主罐体和显液管之间设置有可展开的胶囊体，胶囊体将主罐体和显液管分隔成两部分。当需要观察主罐体上化学药剂的高度时，在显液管的开口处注入测量液，当主罐体内化学药剂高度发生变化时，胶囊体展开或者闭合，显液管中的测量液高度随即发生变化。由于上述储液罐中主罐体和显液管可注入不同的液体，且显液管可注入易分辨、清洗的测量液，因此可以避免由于显液管和主罐体采用同一液体容易产生沾污物的现象发生，从而减小肉眼的观察结果和液位传感器测量结果的误差。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中储液罐的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的储液罐结构示意图；

图3为本发明实施例提供的储液罐另一结构示意图；

图4为本发明实施例提供的储液罐第三结构示意图；

图5为本发明实施例提供的储液囊一种结构示意图；

图6为本发明实施例提供的储液囊另一结构示意图；

图7为本发明实施例提供的储液囊第三结构示意图；

图8为本发明实施例提供的储液囊第四结构示意图；

图9为本发明实施例提供的注液过程中储液罐的状态示意图；

图10为本发明实施例提供的注液后储液罐的状态示意图；