[发明专利]一种平板集热条带镀膜方法

权利要求书

1.一种平板集热条带镀膜方法，其特征是采用卧式多室结构方案，卷材放卷后水平引入工艺段，完成真空状态下的刻蚀清洗，采用真空磁控溅射手段镀制超低发射比高选择性吸收功能薄膜，执行在线光学性能检测，最后收卷，从左至右由放卷室、收卷室和若干工艺段模块室三大部分串联成一条卷线镀膜线。

2.根据权利要求1所述的平板集热条带镀膜方法，其特征是放卷室内从左到右依次安装有卷筒、张力控制装置和纠偏机构，卷筒采用斜楔倒拉式胀缩卷筒，用螺纹传动胀缩，胀缩范围Ф480~Ф520mm；张力控制范围为2KN~8KN，可根据卷带材质及厚度设定；带材穿越全部行程的纠编精度为跑偏不大于2mm，收卷精度±0.5mm。

3.根据权利要求1所述的平板集热条带镀膜方法，其特征是收卷室的大小尺寸与放卷室一样，两者左、右对称，其一面与镀膜工艺段的第十功能模块室连接，并通过过带窄缝相通，不同之处是张力控制装置和纠偏机构左、右顺序对调，收卷室增加一套在线光学性能检测装置。

4.根据权利要求1或2或3所述的平板集热条带镀膜方法，其特征是镀膜工艺段由十个工艺段模块室组成，工艺段模块室为标准的、具有可互换性的真空箱体，第一工艺段模块室为离子源刻蚀室，第二工艺段模块室为高真空“阱” ——气体隔离室，第三工艺段模块室为镀膜室，以厚度0.15~0.4mm、宽度1250mm的卷铝带或无氧铜卷带作基材，单卷重量4.5T，本室镀镀超低发射比高选择性的、40nm厚的吸收一层——Ti-N-O2膜层；第四工艺段模块室与第二工艺段模块室相同；第五、六工艺段模块室配置相同，镀100nm厚的吸收二层——Ti-N-O1膜层；第七工艺段模块室沉积20nm 厚的镀减反层——SiO₂介质膜层；在第六工艺段模块室与第七工艺段模块室之间为机列速度辊室，该室内主要包括前、后导向辊和有动力的速度辊，以保证速度辊有160°-170°包角，获得足够的摩擦力，卷带机列线速度为1~5m/min，上、下抖动量±0.5mm，线速度波动值小于1%，运动方向正反可逆；第八工艺段模块室与第二工艺段模块室相同；第九、十工艺段模块室配置相同，镀64nm厚的镀减反层——SiO₂介质膜层。