[发明专利]一种硅基薄膜太阳能电池无效
申请号: | 201110198191.3 | 申请日: | 2011-07-15 |
公开(公告)号: | CN102270670A | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | 雷青松;安会静;薛俊明;李顺军;张金娟 | 申请(专利权)人: | 河北汉盛光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/075 |
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地址: | 053000 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 太阳能电池 | ||
技术领域 本发明涉及一种太阳能光伏中硅基薄膜太阳能电池产品,特别适用于一种非晶硅(a-si)基薄膜太阳能电池。
背景技术 硅基薄膜太阳能电池是一种良好的光电转换器件,传统的太阳能电池结构,在透明玻璃基板上依次为FTO层、p型硅基层、i型硅基层、n型硅基层、透明反射背电极掺铝的氧化锌(AZO)薄膜、金属层铝膜。虽然具有工艺简单、成本低、能耗少等优点,但硅基薄膜太阳电池的光电转换效率还较低,目前市场上普遍在6%-8%之间,为了更大规模的应用,需要进一步提高转换效率,所以有待改进。
发明内容 本发明的目的在于提供一种硅基薄膜太阳能电池,有效的增加太阳光的吸收,提高硅基薄膜太阳能电池的光电转换效率。
本发明是这样实现的:一种硅基薄膜太阳能电池,其特征在于在玻璃基板上依次设置具有绒面的Si3N4减反射层、掺氟的二氧化锡(FTO)薄膜层、p型硅基层、i型硅基层、n型硅基层、掺硼的氧化锌薄膜层(BZO)、掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背极板层、铝膜层,所说的具有绒面的Si3N4减反射层厚度为90--110nm,掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背极板与掺硼的氧化锌薄膜层(BZO)总膜厚为150nm,掺氟的二氧化锡(FTO)薄膜层(6)与Si3N4减反射层(9)之间总膜厚900~1000nm,n型硅基层(3)、i型硅基层(4)、p型硅基层(5)三层膜厚为350nm,铝膜层(1)厚度为300nm。
本发明达到了预期的设计目的,设计了掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背 极板层和掺硼的氧化锌薄膜层(BZO)称双背电极板结构,并在前电极掺氟的二氧化锡(FTO)薄膜层与透明玻璃基板间加入具有绒面的Si3N4减反射层,增加了光吸收,提高了电池的光电转换效率,可获得效率超过9%,光致衰退率低于15%的太阳能电池。
附图说明 结合附图进一步描述:
图1是一种硅基薄膜太阳电池结构
图2是具有绒面的Si3N4减反射层截面示意图
图中:
1、铝膜层 2、掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背极板层
3、n型硅基层 4、i型硅基层 5、p型硅基层
6、掺氟的二氧化锡(FTO)薄膜层 7、玻璃基板
8、掺硼的氧化锌薄膜层(BZO) 9、Si3N4减反射层
10、绒面
具体实施方式 根据本发明设计方案,实施在非晶硅薄膜太阳电池中,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法,先沉积一层具有绒面的Si3N4减反射层(9),再采用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法沉积掺氟的二氧化锡(FTO)薄膜层(6),然后采用的是等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法再依次沉积n型硅基层(3)、i型硅基层(4)、p型硅基层(5),然后采用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法沉积掺硼的氧化锌薄膜层(BZO)(8),然后依次采用的是磁控溅射法沉积掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背极板层(2)、最后沉积铝膜层(1)。采用磁控溅射法制作掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背极板层(2),具有电导率高、透光性好等优点,采用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法沉积掺硼 的氧化锌(BZO)薄膜层(8)就是为了减小制作掺铝的氧化锌(AZO)薄膜反射背极板层(2)对n型硅基层(3)的损伤。在透明玻璃基板(7)与掺氟的二氧化锡(FTO)薄膜层(6)之间加入具有绒面的Si3N4减反射层(9),该反射层具有绒面结构,能有效减少光的反射,提高光吸收。尤其是与晶体硅太阳电池相比,本发明具有工艺简单、成本低、能耗少等优点,可应用于光伏建筑一体化、大型光伏电站、及电子计算器、手表、路灯等消费产品。
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