[发明专利]一种硅片清洗用双层石英槽无效

专利信息
申请号: 201110198571.7 申请日: 2011-07-15
公开(公告)号: CN102254793A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 沈法松 申请(专利权)人: 苏州凯西石英电子有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B08B3/04
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙仿卫;汪青
地址: 215233 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 双层 石英
【权利要求书】:

1. 一种硅片清洗用双层石英槽,包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管,其特征在于:所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体(1)、位于所述石英内槽体(1)外周且与所述石英内槽体(1)外壁之间构成液体通道(3)的石英外槽体(2),所述石英外槽体(2)的下部设有出液口,所述石英槽还包括一端连接在所述石英外槽体(2)的出液口处的石英回流管(4)以及与所述石英回流管(4)的另一端部相连通用于将石英回流管(4)中的液体输入至所述石英内槽体(1)中的输送装置。

2. 根据权利要求1或所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述石英回流管(4)与所述的外槽体(2)之间螺纹连接。

3. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述输送装置包括一端部插入所述外槽体(2)设置的第一进液管(5)、连接在所述的第一进液管(5)的另一端部与所述石英回流管(4)之间的过滤增压器(6)以及位于所述内槽体(1)内且与所述第一进液管(5)连通的第二进液管(7)。

4. 根据权利要求3所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述第二进液管(7)安装在所述内槽体(1)的底部,其上布满了大小一致的出液孔(70)使得液体能够均匀地流至所述内槽体(1)中。

5. 根据权利要求4所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述的第二进液管(7)有2根, 2根所述的第二进液管(7)分别位于所述内槽体(1)的两相对侧,且均沿着所述槽体(1)的长度方向延伸,2根所述的第二进液管(7)的伸出所述内槽体(1)的端部分别与一水平设置的连接管(8)连接,所述连接管(8)在中部连接所述的第一进液管(5)的位于所述外槽体(2)内的端部。

6. 根据权利要求3或4或5所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述的第一进液管(5)与所述外槽体(2)的侧壁之间螺纹连接,所述第二进液管()与所述内槽体(1)的侧壁之间螺纹连接。

7. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述内槽体(1)的底(10)倾斜设置,所述的废液排出口位于所述的内槽体(1)较低的一侧,在所述废液排出口位置连接有废液排放管(11)。

8. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述内槽体(1)在槽口位置呈齿形。

9. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述的外槽体(2)的底(20)倾斜设置,所述的出液口开设在所述的外槽体(2)的底部。

10. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述内槽体(1)的内壁上设有护栏(12),所述的电热偶护管插设在所述护栏(12)内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州凯西石英电子有限公司,未经苏州凯西石英电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110198571.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top