[发明专利]一种硅片清洗用双层石英槽无效
申请号: | 201110198571.7 | 申请日: | 2011-07-15 |
公开(公告)号: | CN102254793A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 沈法松 | 申请(专利权)人: | 苏州凯西石英电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;B08B3/04 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;汪青 |
地址: | 215233 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 清洗 双层 石英 | ||
1. 一种硅片清洗用双层石英槽,包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管,其特征在于:所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体(1)、位于所述石英内槽体(1)外周且与所述石英内槽体(1)外壁之间构成液体通道(3)的石英外槽体(2),所述石英外槽体(2)的下部设有出液口,所述石英槽还包括一端连接在所述石英外槽体(2)的出液口处的石英回流管(4)以及与所述石英回流管(4)的另一端部相连通用于将石英回流管(4)中的液体输入至所述石英内槽体(1)中的输送装置。
2. 根据权利要求1或所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述石英回流管(4)与所述的外槽体(2)之间螺纹连接。
3. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述输送装置包括一端部插入所述外槽体(2)设置的第一进液管(5)、连接在所述的第一进液管(5)的另一端部与所述石英回流管(4)之间的过滤增压器(6)以及位于所述内槽体(1)内且与所述第一进液管(5)连通的第二进液管(7)。
4. 根据权利要求3所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述第二进液管(7)安装在所述内槽体(1)的底部,其上布满了大小一致的出液孔(70)使得液体能够均匀地流至所述内槽体(1)中。
5. 根据权利要求4所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述的第二进液管(7)有2根, 2根所述的第二进液管(7)分别位于所述内槽体(1)的两相对侧,且均沿着所述槽体(1)的长度方向延伸,2根所述的第二进液管(7)的伸出所述内槽体(1)的端部分别与一水平设置的连接管(8)连接,所述连接管(8)在中部连接所述的第一进液管(5)的位于所述外槽体(2)内的端部。
6. 根据权利要求3或4或5所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述的第一进液管(5)与所述外槽体(2)的侧壁之间螺纹连接,所述第二进液管()与所述内槽体(1)的侧壁之间螺纹连接。
7. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述内槽体(1)的底(10)倾斜设置,所述的废液排出口位于所述的内槽体(1)较低的一侧,在所述废液排出口位置连接有废液排放管(11)。
8. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述内槽体(1)在槽口位置呈齿形。
9. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述的外槽体(2)的底(20)倾斜设置,所述的出液口开设在所述的外槽体(2)的底部。
10. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽,其特征在于:所述内槽体(1)的内壁上设有护栏(12),所述的电热偶护管插设在所述护栏(12)内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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