[发明专利]二氧化硅多孔质体、光学用途层积体和组合物、以及二氧化硅多孔质体的制造方法

权利要求书

1.一种组合物，其特征在于，该组合物含有选自由四烷氧基硅烷类、四烷氧基硅烷类的水解物及部分缩合物组成的四烷氧基硅烷类组中的至少一种物质、和选自由除该四烷氧基硅烷类以外的烷氧基硅烷类、该烷氧基硅烷类的水解物及部分缩合物组成的其他烷氧基硅烷类组中的至少一种物质；和/或含有选自所述四烷氧基硅烷类组中的至少一种物质与选自其他烷氧基硅烷类组中的至少一种物质的部分缩合物，

并且该组合物含有水；

有机溶剂；

催化剂；和

具有环氧乙烷部位的非离子性高分子，

并满足下述(3)～(6)：

(3)来自四烷氧基硅烷类的硅原子与来自所有烷氧基硅烷类的硅原子的比例为0.3mol/mol～0.7mol/mol；

(4)水与来自所有烷氧基硅烷类的硅原子的比例为10mol/mol以上；

(5)具有环氧乙烷部位的非离子性高分子的重均分子量为4,300以上；

(6)该有机溶剂中的80重量％以上为沸点55℃～140℃的有机溶剂。

2.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述具有环氧乙烷部位的非离子性高分子与来自所有烷氧基硅烷类的硅原子的比例为0.001mol/mol～0.05mol/mol。

3.如权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述具有环氧乙烷部位的非离子性高分子中的环氧乙烷部位的含量为20重量％以上。

4.如权利要求1～3的任一项所述的组合物，其特征在于，所述具有环氧乙烷部位的非离子性高分子为聚环氧乙烷-聚环氧丙烷-聚环氧乙烷三嵌段聚合物和/或聚乙二醇。

5.如权利要求1～4的任一项所述的组合物，其特征在于，所述四烷氧基硅烷类为四乙氧基硅烷，并且，

所述除四烷氧基硅烷类以外的烷氧基硅烷类为具有芳香族烃基或脂肪族烃基的单烷基烷氧基硅烷或二烷基烷氧基硅烷。

6.如权利要求1～5的任一项所述的组合物，其特征在于，所述有机溶剂含有选自由乙醇、1-丙醇、叔丁醇、2-丙醇、1-丁醇、1-戊醇和乙酸乙酯组成的组中的至少一种溶剂。

7.如权利要求1～6的任一项所述的组合物，其特征在于，所述催化剂为酸类。

8.一种二氧化硅多孔质体的制造方法，其特征在于，该制造方法包括在相对湿度为20％～85％的环境下在基材上将权利要求1～7的任一项所述的组合物成膜后，进行加热的工序。