[发明专利]金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列及其制备方法

权利要求书

1.一种金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列，包括导电衬底，其特征在于：

所述导电衬底上堆积有构成有序孔阵列壁的金颗粒；

所述有序孔的孔间距为0.1～30μm；

所述金颗粒的粒径为10～100nm，其堆积的层数为1～300层。

2.根据权利要求1所述的金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列，其特征是导电衬底为导电玻璃，或导电橡胶，或金属片。

3.根据权利要求1所述的金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列，其特征是有序孔阵列为有序六方排列。

4.一种权利要求1所述金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列的制备方法，包括电沉积法，其特征在于完成步骤如下：

步骤1，先将由球直径为0.1～30μm的聚苯乙烯胶体球组成的单层胶体晶体模板置于导电衬底上，再将其上置有单层胶体晶体模板的导电衬底置于金电解液中，以其为工作电极，于电流密度为0.1～5mA/cm²下采用三电极法电沉积5～60min，得到复合体阵列；

步骤2，先将复合体阵列置于二氯甲烷溶剂中去除聚苯乙烯胶体球，得到金体阵列，再将金体阵列置于氯化钾溶液中进行电化学氧化-还原循环处理，其中，电化学氧化-还原循环处理的过程为，电压自-0.3V始，以1V/s的速率线形上升至1.2V后停留1.2s，随后再以0.5V/s的速率线形下降至-0.3V，如此循环往复5～35次，制得金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列。

5.根据权利要求4所述的金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列的制备方法，其特征是导电衬底为导电玻璃，或导电橡胶，或金属片。

6.根据权利要求4所述的金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列的制备方法，其特征是金电解液由浓度为12g/L的氯金酸、5g/L的乙二胺四乙酸二钠、160g/L的亚硫酸钠和30g/L的磷酸氢二钾相混合而成。

7.根据权利要求4所述的金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列的制备方法，其特征是电沉积时的对电极为石墨电极，参比电极为饱和甘汞电极。

8.根据权利要求4所述的金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列的制备方法，其特征是氯化钾溶液的浓度为0.05～0.5mol/L。