[发明专利]实现一次曝光的切趾装置及方法无效

专利信息
申请号: 201110200375.9 申请日: 2011-07-18
公开(公告)号: CN102221727A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 何伟 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: G02B6/124 分类号: G02B6/124;H04B10/12
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 王守仁
地址: 430071 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 实现 一次 曝光 装置 方法
【权利要求书】:

1. 实现一次曝光切趾装置,其特征是主要由紫外光(1)、聚焦柱透镜(3)、相位掩模板(4)、光敏光纤(5)和凹形柱面反射镜(10)组成,它们依次排列在紫外光路上。

2. 根据权利要求1所述的实现一次曝光切趾装置,其特征是所述凹形柱面反射镜(10)由基底(13)和高反射膜(14)组成,基底(13)的凹形柱面需要光学表面,其上针对写光栅的紫外光(1)镀高反射膜(14)。

3. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征是所述基底(13)由玻璃制成,该玻璃为普通光学玻璃或石英玻璃。

4. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征是所述高反射膜(14)由金属膜制成,该金属膜的材料包括铝。

5. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征是所述的高反射膜(14)由多层介质膜制成,该多层介质膜的材料包括氧化锆和氧化硅。

6. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征在于所述的凹形柱面反射镜(10)的凹形柱面曲率半径                                               由紫外光(1)的波长,相位掩模板(4)的条纹周期,以及所写光纤光栅(6)的长度来决定,计算公式为:

                               (1)。

7. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征在于所述凹形柱面反射镜(10)上的高反射膜(14)的长度由所写光纤光栅(6)的长度来决定,计算公式为:

                                         (2)。

8. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征在于所述的凹形柱面反射镜(10)的凹形柱面高度由平行紫外光(1)的高度,聚焦柱透镜的焦距,及凹形柱面的曲率半径来决定,需满足以下关系:

                                        (3)。

9. 根据权利要求2所述的实现一次曝光切趾装置,其特征在于所述的凹形柱面反射镜(10)的柱面轴线与光敏光纤(5)重合;高反射膜(14)的长度的中点与光纤光栅(6)的长度的中点的连线与入射的紫外光(1)光束中轴线重合。

10. 实现一次曝光切趾方法,其特征是利用权利要求1至9中任一权利要求所述一次曝光切趾装置,来实现基于凹形柱面反射镜的一次曝光切趾方法,具体是:具有切趾分布的紫外光(1)经过聚焦柱透镜(3)聚焦,透过相位掩模板(4)在光敏光纤(5)上写光纤光栅(6);透过相位掩模板(4)的紫外光(1)形成的两束一级衍射光(9),入射到凹形柱面反射镜(10)后,由凹形柱面反射镜(10)分别将两束一级衍射光(9)的一半反射回去,反射回去的两束反射光(12)在光纤光栅(6)上重新聚焦,其焦线在光纤光栅(6)处正好首尾相连,连起来的焦线刚好将光纤光栅(6)完全覆盖,并形成反切趾分布对光纤光栅(6)进行折射率直流整形曝光,完成切趾光纤光栅的制作。

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