[发明专利]测量超级结深沟槽内外延层电阻纵向分布的方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体领域，特别是涉及一种测量超级结深沟槽内外延层电阻值的纵向分布情况的方法。

背景技术

超级结(SJ)的先进制造工艺如图1所示，首先，在硅衬底1上生长一层厚的N型硅外延层2，然后，在此N型硅外延层2上形成一个深沟槽3，再用P型硅外延填充深沟槽3。

超级结的主要理论是P型杂质和N型杂质的匹配，从而提高器件的击穿电压(breakdown voltage，BV)，但如果P型杂质和N型杂质失配或匹配精度不高，则会导致击穿电压迅速下降。在硅外延填充沟槽的过程中，由于沟槽顶部和沟槽底部气体浓度有一定的差异，所以可能导致沟槽内部掺杂不均匀，如果不对沟槽内部填充外延掺杂的纵向分布或N型外延层的纵向分布进行调整，会导致P和N的匹配在某一纵向范围内的失配，从而导致击穿电压下降。但沟槽内的外延层掺杂纵向分布如何分析是一个难题，由于沟槽宽度小，深度深，常规分析方法，如扩展电阻法、四探针法、Hg探针法、SIMS等，都无法有效测量出SJ深沟槽内的外延层掺杂的纵向分布。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种测量超级结深沟槽内外延层电阻纵向分布的方法，它可以有效分析出超级结深沟槽内外延层掺杂的纵向分布情况。

为解决上述技术问题，本发明的测量超级结深沟槽内外延层电阻纵向分布的方法，包括以下步骤：

(1)在硅衬底上生长一层N型硅外延层；

(2)在该N型硅外延层上刻蚀出沟槽；

(3)用P型硅外延填充该沟槽；

(4)将步骤(3)形成的P型硅外延层划分为N层，测定该N层的总电阻Rs_总；

(5)逐层去除P型硅外延层和相同厚度的N型硅外延层，且每去除一层，测定一次剩余P型硅外延层的电阻Rs_总-i，直到测到第N层，其中，i为1～N的自然数；

(6)计算P型硅外延层每次去除部分的电阻Rs_i。

所述沟槽的宽度为1～8微米，深度为10～50微米。

所述N的值为2～90，且第N层的厚度大于0.5微米。

本发明的测量超级结深沟槽内外延层电阻纵向分布的方法，利用并联电阻的测算原理，将整个深沟槽内的外延层分成多层电阻并联，通过分别计算各层的电阻值，实现了对SJ沟槽内外延层掺杂的纵向分布情况的有效分析。

附图说明

图1是超级结的形成步骤图；

图2是本发明实施例中测量沟槽内外延层总电阻的示意图；

图3是本发明实施例中第一次去除一定厚度的沟槽内外延层和衬底外延层后的情况示意图；

图4是用开尔文法测定沟槽内外延层电阻的方法示意图。

图中附图标记说明如下：

1：硅衬底

2：N型硅外延层

3：沟槽

4：P型硅外延层

具体实施方式

为对本发明的技术内容、特点与功效有更具体的了解，现结合图示的实施方式，详述如下：

本发明利用沟槽内载流子的纵向浓度分布与外延层电阻(Rs)的纵向分布呈相反趋势的原理，通过测定Rs来间接分析载流子的浓度，具体步骤如下：

1、在硅衬底1上生长一层N型硅外延层2，如图1(A)所示。

2、在N型硅外延层2上刻蚀出沟槽3，如图1(B)所示。沟槽3的宽度为1～8微米，深度为10～50微米。在本实施例中，沟槽3宽5微米，深40微米。

3、用P型硅外延填充沟槽3，形成P型硅外延层4，如图1(C)所示。

4、测量P型硅外延层4的总电阻Rs_总，如图2所示。测量采用开尔文法，如图4所示，在测试沟槽的四周分别引出四组沟槽(a，b，c，d)，测试针扎在这四组沟槽上，以消除扎针位置的偏差造成的测量误差。以下外延层电阻的测量均采用此法。

5、将P型硅外延层4划分为N层(N为2～90)，每一层厚度为0.5～5微米，第N层的厚度大于0.5微米。

6、用CMP(Chemical Mechanical Planarization，化学机械平坦化)工艺，或干法刻蚀工艺，或湿法刻蚀工艺，去除第一层P型硅外延层和与该层厚度相同的衬底N型硅外延层，如图3所示。然后，用开尔文法测定余下的沟槽内P型硅外延层的电阻Rs_总-1，计算去除的那部分P型硅外延层的电阻Rs₁，计算公式为：