[发明专利]带有拉链状机构的光刻胶及方法无效
| 申请号： | 201110202632.2 | 申请日： | 2011-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN102466970A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 李芳城;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L21/312 |
| 代理公司： | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人： | 陆鑫;高雪琴 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 带有 拉链 机构 光刻 方法 | ||
1.一种用于光刻图案化工艺中的抗蚀剂，包括：
聚合材料，具有多个拉链状分子，每个所述拉链状分子都包括第一拉链状部分和第二拉链状部分，其中，所述第一拉链状部分和所述第二拉链状部分都包括多个拉链状支链，所述多个拉链状支链成对键合在一起，并且能够通过热能、辐射能、以及化学反应中的一种而断裂开。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂，进一步包括：辐射敏感组分，与所述拉链状分子键合。
3.根据权利要求2所述的抗蚀剂，其中，所述辐射敏感组分包括光致生酸剂和光致生碱剂中的一种。
4.根据权利要求2所述的抗蚀剂，其中，所述辐射敏感组分包括热敏分子。
5.根据权利要求1所述的抗蚀剂，其中，所述辐射能包括紫外线(UV)光。
6.根据权利要求1所述的抗蚀剂，进一步包括：溶剂，分布在聚合材料中。
7.根据权利要求1所述的抗蚀剂，其中，所述第一拉链状支链和所述第二拉链状支链都包括极化电荷。
8.根据权利要求1所述的抗蚀剂，其中，所述第一拉链状支链和所述第二拉链状支链利用氢键、离子键、以及共价键中的一种进行键合。
9.一种用于光刻图案化工艺的抗蚀剂，包括：
多个拉链状分子，能够通过酸而断裂开；以及
光致生酸剂(PAG)，每个所述光致生酸剂都与所述拉链状分子中的一个进行键合。
10.一种方法，包括：
在基板上形成抗蚀剂层，所述抗蚀剂层具有多个拉链状分子和辐射敏感组分；以及
利用辐射能曝光所述抗蚀剂层。
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