[发明专利]一种掺氮石墨烯的制备方法有效
申请号: | 201110204967.8 | 申请日: | 2011-07-21 |
公开(公告)号: | CN102887501A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 周明杰;袁新生;王要兵 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518052 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于碳材料的技术领域,具体涉及一种掺氮石墨烯的制备方法。
背景技术
石墨烯是2004年英国曼彻斯特大学的安德烈·K·海姆(Andre K.Geim)等发现的一种二维碳原子晶体,为单层或多层的极薄的碳材料。由于其独特的结构和光电性质使其成为碳材料、纳米技术、凝聚态物理和功能材料等领域的研究热点,吸引了诸多科技工作者。单层石墨烯具有大的比表面积,优良的导电、导热性能和低的热膨胀系数,可用于效应晶体管、电极材料、复合材料、液晶显示材料、传感器等。目前制备石墨烯的方法主要有石墨剥裂、化学氧化还原法、超声剥离法等。然而,目前通过氧化还原的方法大规模制备石墨烯的过程中,还原过后的石墨烯还含有较少量的-OH、-C-O-C-和-COOH等含氧官能团,这些官能团会降低石墨烯的电化稳定性与电化学稳定性。
目前,出现了采用化学气相沉积法制备石墨烯的相关研究,但是,现有化学气相沉积法需要利用催化剂,且该催化剂为金属或金属化合物做催化剂,但是将该催化剂放在衬底上时,会导致催化剂分布不均匀。为了解决该催化剂分布不均的问题,现有的一般利用化学气相沉积法、物理气相沉积法、真空热蒸镀法、磁控溅射法、等离子体增强化学气相沉积法和印刷法将催化剂沉积到衬底,来增加上述催化剂分布的均匀性。因此,现有的采用化学气相沉积法制备石墨烯需要另外添加催化剂,且对设备要求高,操作复杂,导致成本过高。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的上述不足,提供一种工艺简单、产率高、生产成本低,易于操作和控制的掺氮石墨烯的制备方法。
为了实现上述发明目的,本发明实施例的技术方案如下:
一种掺氮石墨烯的制备方法,包括如下步骤:
提供衬底、固态和/或液态的有机碳源化合物以及固态和/或液态的有机氮源化合物;
将所述有机碳源化合物和有机氮源化合物混合,并配制成混合物溶液或悬浊液;
将所述混合物溶液或悬浊液涂覆在所述衬底表面;
在无氧环境、真空条件下,将所述涂覆有混合物溶液或悬浊液的衬底升温至500~1300℃使混合物反应,生成所述掺氮石墨烯。
上述掺氮石墨烯的制备方法将固态和/或液态的有机碳源化合物、固态和/或液态的有机氮源化合物混合,配制成溶液或悬浊液,并直接涂覆在衬底的表面,使有机碳源化合物和有机氮源化合物直接反应,不需要另外添加催化剂,有效简化了掺氮石墨烯的生产工艺,降低了生产成本,同时,采用化学气相沉积法合成的掺氮石墨烯,使得掺氮石墨烯中掺氮量易控制、掺杂均匀,电化学稳定性能高。
附图说明
图1是本发明实施例掺氮石墨烯的制备方法工艺流程示意图;
图2是本发明实施例1制备的掺氮石墨烯的电镜图;
图3是本发明实施例1制备的掺氮石墨烯的X射线电子能谱。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明实施例提供了一种工艺简单、产率高、生产成本,易于操作和控制的掺氮石墨烯的制备方法。该掺氮石墨烯的制备方法的工艺流程如图1所示,包括如下步骤:
S1:提供衬底、固态和/或液态的有机碳源化合物以及固态和/或液态的有机氮源化合物;
S2:将有机碳源化合物和有机氮源化合物混合,并配制成混合物溶液或悬浊液;
S3:将混合物溶液或悬浊液涂覆在衬底表面;
S4:在无氧环境、真空条件下,将涂覆有混合物溶液或悬浊液的衬底升温至500~1300℃使混合物反应,生成所述掺氮石墨烯。
具体地,上述掺氮石墨烯的制备方法步骤S1中,衬底应该耐高温,如步骤S4中500~1300℃的高温,其优选为铜箔、铁箔、镍箔中一种或几种任意组合。该优选材质的衬底耐高温,热稳定性能好。
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