[发明专利]半亚光真空电镀工艺有效
| 申请号： | 201110205126.9 | 申请日： | 2011-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102268640A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 陆琪宏 | 申请（专利权）人： | 杭州三晶工艺塑料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/20 | 分类号： | C23C14/20;C23C14/18;C23C14/02;C23C14/58 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所 33235 | 代理人： | 张德宝 |
| 地址： | 311116 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 亚光 真空 电镀 工艺 | ||
1.一种半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述工艺采用如下步骤——
(1)产品表面处理，所述产品为塑料制品或玻璃制品；
(2)底漆调制：在底漆中加入5％-30％重量比的消光剂；
(3)底漆喷涂及干燥；
(4)真空镀膜：真空镀膜的膜厚为25nm-5000nm，镀膜层为铝层或铬层；
(5)面漆调制：在面漆中加入5％-30％重量比的消光浆；
(6)面漆喷涂及干燥。
2.根据权利要求1所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述产品为塑料制品，所述步骤(3)的喷涂中底漆和半成品均加热到30℃-60℃，流水线线速为5m/min-15m/min；所述步骤(6)的喷涂中面漆和镀膜产品均加热到30℃-60℃，流水线线速为5m/min-15m/min。
3.根据权利要求1所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述产品为玻璃制品，所述底漆中含有0.4％-0.6％的佑谦F110附着力促进剂。所述步骤(3)的喷涂中底漆和半成品均加热到60℃-80℃，流水线线速为5m/min-15m/min；所述步骤(6)的喷涂中面漆和镀膜产品均加热到60℃-80℃，流水线线速为5m/min-15m/min。
4.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(5)中的喷涂均采用空气净化喷涂。
5.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(6)中的干燥均采用紫外线光照干燥。
6.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(2)中的消光剂为超细二氧化硅、滑石粉、硬脂酸铝、硬脂酸钙、低分子热塑性树脂的至少一种。
7.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(5)中的消光浆为佑谦3802A。
8.根据权利要求2所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(5)中的喷涂均采用空气净化喷涂；所述步骤(3)和步骤(6)中的干燥采用紫外线光照干燥。
9.根据权利要求3所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(3) 和步骤(5)中的喷涂均采用空气净化喷涂；所述步骤(3)和步骤(6)中的干燥采用紫外线光照干燥。
10.根据权利要求8或9所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(2)中的消光剂为超细二氧化硅、滑石粉、硬脂酸铝、硬脂酸钙、低分子热塑性树脂的至少一种。
11.根据权利要求8或9所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述步骤(5)中的消光浆为佑谦3802A。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州三晶工艺塑料有限公司，未经杭州三晶工艺塑料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110205126.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型船舶用推进装置
- 下一篇：电弧喷涂方法制备具有自润滑功能的冲压模具
- 同类专利
- 专利分类
