[发明专利]腔室装置及具有该腔室装置的等离子体处理设备

权利要求书

1.一种腔室装置，其特征在于，包括：

腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；

第一和第二射频电极板，所述第一和第二射频电极板分别设在所述腔室本体的横向上的第一和第二侧且暴露到所述腔室内，所述第一和第二射频电极板分别与所述腔室本体绝缘；和

载板，所述载板设在所述腔室内以用作接地电极板，所述载板具有分别与所述第一和第二射频电极板相对设置且用于承载晶片的第一和第二侧面。

2.根据权利要求1所述的腔室装置，其特征在于，所述载板为中空的框架。

3.根据权利要求2所述的腔室装置，其特征在于，所述载板和所述腔室本体均具有梯形环状横截面或矩形环状横截面。

4.根据权利要求1所述的腔室装置，其特征在于，所述腔室本体的第一侧壁上设有第一开口，所述腔室本体的第二侧壁上设有第二开口，所述第一开口由第一侧盖封盖，所述第二开口由第二侧盖封盖，其中所述第一射频电极板设在第一侧盖内且通过第一隔离垫与所述第一侧盖绝缘，所述第二射频电极板设在第二侧盖内且通过第二隔离垫与所述第二侧盖绝缘。

5.根据权利要求4所述的腔室装置，其特征在于，所述第一侧盖相对于所述腔室本体可枢转以打开和封闭所述第一开口，且所述第二侧盖相对于所述腔室本体可枢转以打开和封闭所述第二开口。

6.根据权利要求1所述的腔室装置，其特征在于，所述载板的第一侧面和第二侧面上分别设有用于固定晶片的固定部件。

7.根据权利要求6所述的腔室装置，其特征在于，所述固定部件与所述载板相邻的一端设有斜面。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的腔室装置，其特征在于，还包括设置在所述腔室内的传动装置，所述传动装置位于所述载板的下方用于将所述载板移入和移出所述腔室。

9.根据权利要求8所述的腔室装置，其特征在于，所述传动装置包括：

传动轴，所述传动轴设在所述腔室内，且所述传动轴的两端分别延伸到所述腔室外面；

磁流体轴承，所述磁流体轴承分别设在所述传动轴的两端用于可旋转地支撑所述传动轴并将所述传动轴与所述腔室本体之间密封；

传动轮，所述传动轮安装在所述传动轴上且支撑所述载板；和

驱动装置，所述驱动装置与所述传动轴相连以驱动所述传动轴和所述传动轮一起旋转从而将所述载板移入和移出所述腔室。

10.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：

腔室装置，所述腔室装置为根据权利要求1-9中任一项所述的腔室装置；

射频电源，所述射频电源与所述腔室装置中的第一射频电极板和第二射频电极板相连；和

第一和第二加热元件，所述第一加热元件设在所述第一射频电极板的外侧且所述第二加热元件设在所述第二射频电极板的外侧。

11.根据权利要求10所述的等离子体处理设备，其特征在于，在所述第一加热元件外侧设有防止第一加热元件产生的热量向外辐射的第一隔热板，在所述第二加热元件外侧设有防止第二加热元件产生的热量向外辐射的第二隔热板。

12.根据权利要求10所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括接地部件，所述接地部件安装在所述腔室本体的顶壁和底壁的外表面上并延伸至所述腔室内用于分别将所述载板的顶壁和底壁接地。

13.根据权利要求12所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述等离子体处理设备为PECVD设备。