[发明专利]抛光垫修整方法

权利要求书

1.一种抛光垫修整方法，其特征在于，包括：利用修整器对抛光垫进行修整，其中在所述修整器的修整头从所述抛光垫的中心向所述抛光垫的外沿摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个减小，且在所述修整头从所述抛光垫的外沿向所述抛光垫的中心摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个增大。

2.根据权利要求1所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个分段减小且分段增大。

3.根据权利要求2所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个分2-20段减小且分2-20段增大。

4.根据权利要求2所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个沿所述抛光垫的半径分段减小且沿所述抛光垫的半径分段增大。

5.根据权利要求4所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个等间距地分段减小且等间距地分段增大。

6.根据权利要求5所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整器的修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个等步长地分段减小且等步长地分段增大。

7.根据权利要求1所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的摆动频率由30次/分钟减小至2次/分钟且由2次/分钟增大至30次/分钟。

8.根据权利要求1所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的旋转速度由150rpm减小至10rpm且由10rpm增大至150rpm。

9.根据权利要求1所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的修整压力由10psi减小至0.2psi且由0.2psi增大至10psi。

10.根据权利要求1所述的抛光垫修整方法，其特征在于，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力同时减小且同时增大。