[发明专利]磁盘用玻璃基板及其制造方法、磁盘

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括化学强化处理工序，该工序通过将中心部形成有圆孔的盘状玻璃基板浸渍于化学强化处理液中，使包含于所述玻璃基板表面中的相对小的离子与包含于化学强化处理液中的相对大的离子进行离子交换，在该玻璃基板表面生成压缩应力层，其中，以使形成于该盘状玻璃基板中心部的所述圆孔的变形量为圆孔直径的0.05％以内、且该盘状玻璃基板的抗弯强度达到98N以上的方式进行所述化学强化处理。

2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，所述磁盘用玻璃基板为中心部具有圆孔的环状，其中，在对任意选择的500片～1000片所述玻璃基板的圆孔直径进行测定的情况下，以各玻璃基板的圆孔直径相对于该玻璃基板的平均圆孔直径A在±5×10^-4×A的范围内、且各玻璃基板的抗弯强度达到98N以上的方式进行控制。

3.权利要求2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述磁盘用玻璃基板为2.5英寸基板，其中，各玻璃基板的圆孔直径为A±10μm以内。

4.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括化学强化处理工序，该工序通过将中心部形成有圆孔的盘状玻璃基板浸渍于化学强化处理液中，使包含于所述玻璃基板表面中的相对小的离子与包含于化学强化处理液中的相对大的离子进行离子交换，而在该玻璃基板表面生成压缩应力层，其中，选择该盘状玻璃基板的玻璃材料和所述化学强化处理的处理条件进行所述化学强化处理，使形成于该盘状玻璃基板中心部的所述圆孔的变形量为圆孔直径的0.05％以内、且该盘状玻璃基板的抗弯强度达到98N以上。

5.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括化学强化处理工序，该工序通过将中心部形成有圆孔的盘状玻璃基板浸渍于化学强化处理液中，使包含于所述玻璃基板表面中的相对小的离子与包含于化学强化处理液中的相对大的离子进行离子交换，而在该玻璃基板表面生成压缩应力层，其中，以对各玻璃预先控制形成于该盘状玻璃基板中心部的所述圆孔的由化学强化处理引起的变形量，使变形量为圆孔直径的0.05％以内、且使由化学强化处理产生的该盘状玻璃基板的抗弯强度达到98N以上的方式选择玻璃材料，将该选择的玻璃材料加工成盘状，同时，在中心部形成圆孔，并进行化学强化处理。

6.权利要求1、4或5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，构成中心部形成有圆孔的盘状玻璃基板的化学强化用玻璃按质量％计包含：

SiO₂：57～75％、

Al₂O₃：5～20％、

其中，SiO₂和Al₂O₃的合计量为74％以上，

ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃及TiO₂合计大于0％且在6％以下，

Li₂O：大于1％且在9％以下、

Na₂O：5～18％、

其中，质量比Li₂O/Na₂O为0.5以下，

K₂O：0～6％、

MgO：0～4％、

CaO：大于0％且在5％以下、

其中，MgO和CaO的合计量为5％以下，且CaO的含量高于MgO的含量，

SrO+BaO：0～3％。

7.权利要求1、4～6中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，化学强化处理使用具有60质量％～80质量％的KNO₃、及40质量％～20质量％的NaNO₃的组成的化学强化处理液，且在350℃～420℃的温度下进行，其中，KNO₃和NaNO₃的合计为100质量％。

8.权利要求1、4～7中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，化学强化处理后的盘状玻璃基板的压缩应力层的厚度为10μm～150μm。