[发明专利]真空镀膜自动转换装置

说明书

技术领域

本发明属于镀膜设备，特别涉及一种能送料、镀膜和出料连续操作的真空镀膜自动装置。

背景技术

真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用，特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现，给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。如蒸发镀膜就是加热靶材，使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。

常见的蒸发镀膜就是将放置镀膜工件的托架置于真空沉积腔室内，关闭闸门后，启动控制装置抽真空，启动加热装置对镀膜工件加热，启动加热装置对靶材加热达到靶材蒸发，实现对托架上工件镀膜操作，镀膜工序结束后，打开闸门再取出镀膜工件，再放入下一批镀膜工件，按照上述重复操作。然而，这样操作效率低下。

发明内容

为了克服上述缺陷，本发明提供一种真空镀膜自动转换装置，能将放置工件、进行真空镀膜和取出镀膜工件连续进行，提高了加工效率。

本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空镀膜自动转换装置，包括并排相连的进料室、真空镀膜室和出料室，该进料室与真空镀膜室之间，以及该真空镀膜室与出料室之间分别设有能密封关闭的第二闸门和第三闸门，其中：

1)该进料室设有用于托架滑动的第一轨道、控制托架沿该第一轨道滑动的第一滑动机构以及能送入托架并密封关闭的第一闸门；

2)该真空镀膜室设有能由该第一轨道上托架通过该第二闸门滑入的第二轨道、控制托架沿该第二轨道滑动的第二滑动机构；

3)该出料室设有由该第二轨道上托架通过该第三闸门能滑入的第三轨道、控制托架沿该第三轨道滑动的第二滑动机构以及能取出托架并密封关闭的第四闸门。

作为本发明的进一步改进，该托架设有能放置镀膜工件的支撑板或挂钩。

作为本发明的进一步改进，该第一滑动机构、第二滑动机构和第三滑动机构分别设于对应轨道上并能支撑托架滑动的滚轮组，各滚轮组分别通过对应驱动马达控制滚动。

作为本发明的进一步改进，该第一闸门、第二闸门、第三闸门和第四闸门分别通过马达控制关闭或打开。

作为本发明的进一步改进，该真空镀膜室内侧顶部至少设有一个能对托架上的工件加热的电阻加热体或红外加热体。

作为本发明的进一步改进，该进料室内侧顶部至少设有一个能对托架上的工件加热的电阻加热体或红外加热体。

作为本发明的进一步改进，该真空镀膜室位于该第二轨道下方设有靶材，该靶材通过加热机构加热蒸发，该加热机构为安装于该真空镀膜室内并可放置该靶材的槽状金属加热体，该槽状金属加热体两侧设有一对电极，该对电极另一端引出于该真空镀膜室后，分别与电源变压器之次级绕组引出端连接。

作为本发明的进一步改进，该靶材还通过转动机构控制能相对该第二轨道上托架转动，该转动机构为通过轴承固定于该真空镀膜室内侧底部的转轴，该转轴上端与绝缘连接杆一端固定，并且该绝缘连接杆与该转轴呈直角连接，该绝缘连接杆另一端固定该槽状金属加热体，该对电极另一端沿该绝缘连接杆，并通过该转轴内的两通孔引出，该转轴下端伸出该真空镀膜室外后固定滚轮，并通过传送带和马达控制转动。

本发明的有益技术效果是：所述进料室、真空镀膜室和出料室分别用于装载镀膜工件、进行真空操作和取出镀膜工件，所述第一轨道与第一滑动机构、第二轨道与第二滑动机构以及第三轨道与第三滑动机构，实现了将装有镀膜工件的托架从进料室送入真空镀膜室，再由真空镀膜室送入出料室，而所述第二闸门和第三闸门既起到密封关闭作用(便于真空镀膜室操作)，又有利于托架在各工作室之间转换，所述第一滑动机构、第二滑动机构和第三滑动机构，以及第一闸门、第二闸门、第三闸门和第四闸门都分别通过马达控制操作的，因此整个镀膜过程(包括放置工件、真空镀膜和取出工件)连续进行，提高了加工效率。

附图说明

图1为本发明的半剖视结构示意图。

对照以上附图作如下补充：

20——真空镀膜室        3——靶材

21——进料室            46——托架

22——出料室            50——槽状金属加热体

23a——第一闸门         52——绝缘连接杆