[发明专利]一种环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统

权利要求书

1.一种环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于包括：激光光源(101)、扩束准直光学系统(102)、可变光阑(104)、二元相位光栅(105)、变焦光学系统(106)和空间滤波器(107)；激光光源(101)经过扩束准直系统(102)后变成平行光，再经过可变光阑(104)对光束的直径大小进行调节，以控制垂直入射到二元相位光栅(105)上的光束直径大小；光束经过可变光阑(104)调节直径大小后垂直入射到二元相位光栅(105)上，二元相位光栅(105)后为变焦光学系统(106)，在变焦光学系统(106)的后焦面上放置空间滤波器(107)接收环形光源，通过调节变焦系统(106)的焦距f1的大小分别改变环形光源的环厚度和环半径。

2.根据权利要求1所述的环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于：所述二元相位光栅(105)是等间距二元相位光栅，其刻蚀深度满足2h(n-1)＝λ，其中h为相位光栅刻槽深度，n为相位光栅元件的折射率，λ为入射光的波长。

3.根据权利要求1所述的环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于：所述二元相位光栅(105)安装时的旋转轴须与光学系统的光轴重合；旋转轴的中心位于光栅栅节的几何中心。

4.根据权利要求1所述的环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于：所述的光源采用激光光源。

5.根据权利要求1所述的环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于：所述变焦光学系统(106)可以是固定变焦和连续变焦两种模式。

6.根据权利要求1所述的环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于：所述空间滤波器(107)由涂有不透光膜的环带玻璃平板构成。

7.根据权利要求1所述的环半径和环厚度可调的干涉仪环形光源系统，其特征在于：所述空间滤波器(107)位于变焦光学系统(106)和后面准直透镜(108)的共同焦面上。