[发明专利]提高7350光刻胶热稳定性的方法有效

专利信息
申请号: 201110217319.6 申请日: 2011-08-01
公开(公告)号: CN102253601A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 张国华;陈杰;陈正才;李俊 申请(专利权)人: 无锡中微晶园电子有限公司
主分类号: G03F7/14 分类号: G03F7/14;G03F7/00
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 提高 7350 光刻 热稳定性 方法
【权利要求书】:

1.一种提高7350光刻胶热稳定性的方法,其特征是,所述方法包括如下步骤:

(a)、第一次UV坚膜:将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜,所述7350光刻胶上刻蚀出相应的图案;坚膜起始温度为100℃~110℃;起始温度保持时间为80~90秒,然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃;

(b)、取片:将圆片移出坚膜设备,并使圆片的温度降至常温状态;

(c)、第二次UV坚膜:将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜,坚膜起始温度为114℃~126℃,其实温度保持时间为44~50秒;然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至190℃~210℃;

(d)、取片:将上述圆片移出坚膜设备。

2.根据权利要求1所述提高7350光刻胶热稳定性的方法,其特征是:将上述得到的圆片及位于圆片上的7350光刻胶放置于ECR金属腐蚀设备上,通过7350光刻胶的掩膜作用,刻蚀出圆片上的金属层。

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