[发明专利]提高7350光刻胶热稳定性的方法有效
申请号: | 201110217319.6 | 申请日: | 2011-08-01 |
公开(公告)号: | CN102253601A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 张国华;陈杰;陈正才;李俊 | 申请(专利权)人: | 无锡中微晶园电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/14 | 分类号: | G03F7/14;G03F7/00 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214028 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 7350 光刻 热稳定性 方法 | ||
1.一种提高7350光刻胶热稳定性的方法,其特征是,所述方法包括如下步骤:
(a)、第一次UV坚膜:将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜,所述7350光刻胶上刻蚀出相应的图案;坚膜起始温度为100℃~110℃;起始温度保持时间为80~90秒,然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃;
(b)、取片:将圆片移出坚膜设备,并使圆片的温度降至常温状态;
(c)、第二次UV坚膜:将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜,坚膜起始温度为114℃~126℃,其实温度保持时间为44~50秒;然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至190℃~210℃;
(d)、取片:将上述圆片移出坚膜设备。
2.根据权利要求1所述提高7350光刻胶热稳定性的方法,其特征是:将上述得到的圆片及位于圆片上的7350光刻胶放置于ECR金属腐蚀设备上,通过7350光刻胶的掩膜作用,刻蚀出圆片上的金属层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡中微晶园电子有限公司,未经无锡中微晶园电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110217319.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一体机底座结构
- 下一篇:一种视角可控的蓝相液晶显示器