[发明专利]电润湿透镜的形成方法及电润湿透镜无效
申请号: | 201110219186.6 | 申请日: | 2011-08-02 |
公开(公告)号: | CN102253438A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 陈超平;乔艳冰 | 申请(专利权)人: | 昆山龙腾光电有限公司 |
主分类号: | G02B3/14 | 分类号: | G02B3/14;G02B26/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李鹏松;杨楷 |
地址: | 215301*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 润湿 透镜 形成 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及电润湿透镜的形成方法及电润湿透镜。
背景技术
电润湿(Electrowetting)是一种微流体现象,利用电润湿现象或电化毛细管(Electrocapillary)现象,当极性的流体受到电场的作用时,改变流体的表面形状,使得极性流体的表面分布发生改变。电润湿技术已经开始广泛地被用作各种流体及电光设备的驱动机制。利用电润湿现象的液体透镜如同人的眼睛一样,能够自动地适应所瞄准的对象,而不需要机械装置的辅助,只需改变两极电压来修改液体的外形,就可达到聚焦和变焦的目的。与传统的透镜相比,电润湿透镜具有非偏振依赖性、成本低、耗电量小、变焦速度快、寿命长、成像的质量好等优点。另外,利用电润湿现象,还可以制造显示器装置。
图1揭示了一种现有的电润湿法显示器装置的剖面示意图。如图1所示,该现有的电润湿法显示器装置包括背光模块20与电润湿法显示器50作为光开关,电润湿法显示器50包括第二基板22,像素电极24整面设置于第二基板22上。具有疏水性表面性质的介电层26设置于像素电极24上。图案化的具亲水性表面的挡墙结构28设置于介电层26上,限定出各个像素区域。含黑色染料的不透明非极性液体45以及透明的极性液体40设置于各个像素区域中。第一基板30其上具有图案化的公共电极32,相对第二基板22设置于挡墙结构28与透明的极性液体40上。该电润湿法显示器装置可以利用极性液体40受电场的作用从而改变极性液体40与非极性液体45之间的界面形状,使得不透明的非极性液体45覆盖像素区域的面积大小来控制显示器像素的亮态与暗态。
现有的电润湿法显示器50的制造方法大致包括:提供第一基板30,在其上形成有图案化的公共电极32;提供第二基板22,在其上形成有像素电极24、介电层26以及多个挡墙结构28;接着向第二基板22上的由各挡墙结构28形成的空间中滴注极性液体40和非极性液体45;最后组立第一基板30与第二基板22,使其间夹置极性液体40与非极性液体45。现有的先形成挡墙结构28再组立第一基板30与第二基板22的制程中,滴注极性液体40和非极性液体45对制程中滴注位置、滴注体积等参数要求较高,而且,形成挡墙结构28的制程中容易出现组立对位问题引起的挡墙结构28的位置偏差或损坏挡墙结构28的缺陷。
因此,有必要提供改进的技术方案以克服现有技术中存在的技术问题。
发明内容
本发明要解决的主要技术问题是提供电润湿透镜的形成方法及电润湿透镜,其能够提高生产制造的良率。
为解决上述技术问题,本发明的一方面提供了一种电润湿透镜的形成方法,其包括:提供第一基板,并在其上形成第一透明电极;提供第二基板,并在其上形成第二透明电极;在所述第二透明电极上形成介电层;对向组立所述第一基板和所述第二基板,在所述第一基板和所述第二基板之间夹置分散有可光聚合的物质的极性液体和分散有可光聚合的物质的非极性液体;以及对组立后的所述第一基板和所述第二基板进行光照射,使得分散于所述极性液体和所述非极性液体中的可光聚合的物质聚合固化而在所述第一基板和所述第二基板之间形成挡墙结构。
本发明的另一方面提供了一种电润湿透镜,其包括相对设置的第一基板和第二基板,在所述第一基板上设置有第一透明电极,在所述第二基板上设置有第二透明电极以及覆盖在所述第二透明电极上的介电层,所述电润湿透镜还包括夹置在所述第一基板和所述第二基板之间的挡墙结构、以及位于由所述挡墙结构隔离的多个空间中的极性液体和非极性液体,所述挡墙结构由原来分散于所述极性液体及非极性液体中的可光聚合的物质经光聚合固化而形成。
相较于现有技术中的先形成挡墙结构,再在挡墙结构限定的空间中滴注极性液体和非极性液体的设计方式来说,本发明的电润湿透镜无需先形成挡墙结构,而是通过将可光聚合的物质分散于极性液体及非极性液体中,而后可光聚合的物质经过光聚合固化而形成挡墙结构,因此,在电润湿透镜的形成过程中,降低了对极性液体与非极性液体的滴下精度要求,而且,挡墙结构的形成位置能够精确控制,从而,避免了在形成过程中挡墙结构可能存在的组立位置偏差,因此,本发明的电润湿透镜具有制程简单、生产制造的良率高等优点。
通过以下参考附图的详细说明,本发明的其它方面和特征变得明显。但是应当知道,该附图仅仅为解释的目的设计,而不是作为本发明的范围的限定,这是因为其应当参考附加的权利要求。还应当知道,除非另外指出,不必要依比例绘制附图,它们仅仅力图概念地说明此处描述的结构和流程。
附图说明
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